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1.

发明公开
二氮杂二烯基化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和二氮杂二烯化合物有权

公开(公告)号：CN107428677A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680013777.9

申请日：2016-02-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 , 远津正挥 , 西田章浩 , 杉浦奈奈 , 樱井淳 , 冈部诚

IPC: C07C251/08 , C23C16/18 , C07F15/06

CPC classification number: C07C251/08 , C07F15/06 , C07F15/065 , C23C16/18 , C23C16/45553

Abstract: 由下述通式(I)表示的二氮杂二烯基化合物。(式中，R1和R2各自独立地表示碳数1～6的直链或支化状的烷基，R3表示氢原子或碳数1～6的直链或支化状的烷基，M表示金属原子或硅原子，n表示由M表示的金属原子或硅原子的价数。)

2.

发明公开
新型的化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法无效

公开(公告)号：CN107531734A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680025896.6

申请日：2016-05-17

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 , 远津正挥 , 西田章浩 , 杉浦奈奈

IPC: C07F13/00 , C07F15/04 , C07F15/06 , C23C16/18 , H01L21/285

Abstract: 本发明的新型化合物的特征在于，由下述通式(I)或(II)表示：[式中，R1和R2各自独立地表示碳原子数1～12的烃基，该烃基的氢原子也有时被Si(R3)3取代。其中，R1与R2为不同的基团。R3表示甲基或乙基，M表示金属原子或硅原子，n表示1～4的整数。]

3.

发明授权
二氮杂二烯基化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和二氮杂二烯化合物有权

公开(公告)号：CN107428677B

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN201680013777.9

申请日：2016-02-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 , 远津正挥 , 西田章浩 , 杉浦奈奈 , 樱井淳 , 冈部诚

IPC: C07C251/08 , C23C16/18 , C07F15/06

Abstract: 由下述通式(I)表示的二氮杂二烯基化合物。(式中，R1和R2各自独立地表示碳数1～6的直链或支化状的烷基，R3表示氢原子或碳数1～6的直链或支化状的烷基，M表示金属原子或硅原子，n表示由M表示的金属原子或硅原子的价数。)

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