公开(公告)号：CN101426868A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200780014226.5

申请日：2007-07-13

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 水足岳明 ,  本间正敏

IPC: C09D175/04 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12 ,  C09D133/06 ,  C09D201/00

CPC classification number: C09D175/08 ,  C08G18/2825 ,  C08G18/4841 ,  C08G18/758 ,  C08L33/00 ,  C09D5/024

Abstract: 本发明的目的在于提供显示优异的触变性，涂料的耐水性及涂膜的设计性良好的水系涂料组合物。本发明涉及水系涂料组合物，其特征在于含有：上述通式(1)表示的聚氨酯化合物作为(A)成分，(R1表示从C2～20的n元醇中去除了羟基的残基，R2表示可以具有尿烷键的烃基，R3表示C8～30的烷基，R4表示C2～3的亚烷基，k表示1～500的数，n和m表示的2～10的数)光亮材料作为(B)成分，除了(A)成分以外的水溶性的树脂作为(C)成分。

公开(公告)号：CN102040224A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN201010528307.0

申请日：2010-10-22

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 绫洋一 ,  本间刚 ,  本间正敏

IPC: C01B33/12

Abstract: 本发明提供能够以高浓度添加到有机溶剂或树脂等非水溶性介质中、且添加到非水溶性介质中后的体系不产生浑浊及变白等、或添加后的体系不发生凝胶化的疏水性核壳型二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子和它们的制造方法。所述核壳型二氧化硅粒子具有壳层和包含通过乳化聚合得到的树脂的核，所述壳层含有：(A)成分，该(A)成分为以组成式SiO2表示的二氧化硅；(B)成分，该(B)成分为以通式(2)的组成式、或通式(1)和通式(2)的组成式表示的改性二氧化硅；以及(C)成分，该(C)成分为以通式(3)的组成式表示的改性二氧化硅，在通式(1)中，R表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基，在通式(2)中，R’表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基，在通式(3)中，R”表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基。RSiO3/2 (1) R’2SiO (2) R”3SiO1/2 (3)

公开(公告)号：CN1896152A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200610093464.7

申请日：2006-02-14

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 保坂将毅 ,  本间正敏 ,  近藤圭英

IPC: C09D7/12 ,  B01F17/42

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41M5/5218 ,  B41M5/5245 ,  B41M5/5254 ,  C08K5/005 ,  C08K5/3435 ,  C09D5/024 ,  C09D11/38 ,  D21H19/44 ,  D21H21/143 ,  D21H21/52 ,  C08L71/02

Abstract: 本发明的目的在于提供一种长期保存稳定性良好且即使向水系涂布剂组合物中添加，形成的涂膜的各种物性也不会发生劣化的光稳定剂乳化组合物，以及含有该光稳定剂乳化组合物的水系涂布剂组合物。本发明的光稳定剂乳化组合物含有水、乳化剂、光稳定剂和/或紫外线吸收剂，其特征在于，构成光稳定剂乳化组合物的成分的平均粒径为150nm或以下。

公开(公告)号：CN108476005A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780004959.4

申请日：2017-01-06

Applicant: 千叶正毅 ,  和气美纪夫 ,  共立材料株式会社 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 千叶正毅 ,  和气美纪夫 ,  大屋纪之 ,  横田英之 ,  本间正敏 ,  小田切庆一 ,  竹之内宏美 ,  齐木智秋

IPC: H02N11/00

CPC classification number: H02N11/00

Abstract: 一种转换器具备第一电极、第二电极、介电弹性体膜和高介电常数膜。介电弹性体膜配置在第一电极与第二电极之间，并且具有相对介电常数ε1。高介电常数膜配置在第一电极与介电弹性体膜之间、和第二电极与介电弹性体膜之间的至少一方，并且具有比相对介电常数ε1大的相对介电常数ε2。

公开(公告)号：CN102040224B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201010528307.0

申请日：2010-10-22

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 绫洋一 ,  本间刚 ,  本间正敏

IPC: C01B33/12

Abstract: 本发明提供能够以高浓度添加到有机溶剂或树脂等非水溶性介质中、且添加到非水溶性介质中后的体系不产生浑浊及变白等、或添加后的体系不发生凝胶化的疏水性核壳型二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子和它们的制造方法。所述核壳型二氧化硅粒子具有壳层和包含通过乳化聚合得到的树脂的核，所述壳层含有：(A)成分，该(A)成分为以组成式SiO2表示的二氧化硅；(B)成分，该(B)成分为以通式(2)的组成式、或通式(1)和通式(2)的组成式表示的改性二氧化硅；以及(C)成分，该(C)成分为以通式(3)的组成式表示的改性二氧化硅，在通式(1)中，R表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基，在通式(2)中，R’表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基，在通式(3)中，R”表示可被选自氨基、巯基、(甲基)丙烯酸基和环氧基中的任一基团取代的总碳原子数为1～24的烃基、或碳原子数为1～24的卤代烃基。RSiO3/2 (1)R’2SiO (2)R”3SiO1/2 (3)。

公开(公告)号：CN1896152B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200610093464.7

申请日：2006-02-14

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 保坂将毅 ,  本间正敏 ,  近藤圭英

IPC: C09D7/12 ,  B01F17/42

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41M5/5218 ,  B41M5/5245 ,  B41M5/5254 ,  C08K5/005 ,  C08K5/3435 ,  C09D5/024 ,  C09D11/38 ,  D21H19/44 ,  D21H21/143 ,  D21H21/52 ,  C08L71/02

Abstract: 本发明的目的在于提供一种长期保存稳定性良好且即使向水系涂布剂组合物中添加，形成的涂膜的各种物性也不会发生劣化的光稳定剂乳化组合物，以及含有该光稳定剂乳化组合物的水系涂布剂组合物。本发明的光稳定剂乳化组合物含有水、乳化剂、光稳定剂和/或紫外线吸收剂，其特征在于，构成光稳定剂乳化组合物的成分的平均粒径为150nm或以下。

公开(公告)号：CN1853138B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200480026729.0

申请日：2004-10-07

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 保坂将毅 ,  本间正敏

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有：作为(A)成分的下述通式：{RCOO(AO)a}mX{O(AO′)bH}n(1)；(式中，RCO表示从碳原子数为6～22的脂肪酸中除去了羟基的残基，X表示从至少具有3个羟基的多元醇中除去了羟基的残基，AO及AO′表示碳原子数为2～4的氧化亚烷基，a表示0或大于等于1的数，b表示大于等于1的数，m及n表示大于等于1的数。其中，m及n的和与前述多元醇的羟基数相同)所示的聚醚酯；作为(B)成分的具有阴离子性基团的碱可溶性树脂或其改性物。

公开(公告)号：CN100593029C

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：CN200580026030.9

申请日：2005-07-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 津田隆行 ,  本间正敏 ,  别府耕次

IPC: C08L71/02 ,  B01F17/42 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  C09D201/02 ,  C09K3/00

CPC classification number: C09D5/024 ,  B01F17/0028 ,  C08K5/17 ,  C08L71/00 ,  C09D7/65

Abstract: 本发明的目的在于提供长期保存稳定性良好，并且即使添加到水系涂布剂组合物中也不降低所形成的涂膜的诸物性的光稳定剂乳化组合物、及含有该光稳定剂乳化组合物的水系涂布剂组合物。本发明的光稳定剂乳化组合物，其特征在于含有：具有使2种以上的环氧烷烃反应而成的聚醚链作为亲水基、具有C1-30的烃基作为疏水基的乳化剂，光稳定剂和/或紫外线吸收剂，和水。另外，本发明的水系涂布剂组合物，其特征在于含有前述光稳定剂乳化组合物。

公开(公告)号：CN1993441A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200580026030.9

申请日：2005-07-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 津田隆行 ,  本间正敏 ,  别府耕次

IPC: C09K3/00 ,  B01F17/42 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00

CPC classification number: C09D5/024 ,  B01F17/0028 ,  C08K5/17 ,  C08L71/00 ,  C09D7/65

Abstract: 本发明的目的在于提供长期保存稳定性良好，并且即使添加到水系涂布剂组合物中也不降低所形成的涂膜的诸物性的光稳定剂乳化组合物、及含有该光稳定剂乳化组合物的水系涂布剂组合物。本发明的光稳定剂乳化组合物，其特征在于含有：具有使2种以上的环氧烷烃反应而成的聚醚链作为亲水基、具有C1－30的烃基作为疏水基的乳化剂，光稳定剂和/或紫外线吸收剂，和水。另外，本发明的水系涂布剂组合物，其特征在于含有前述光稳定剂乳化组合物。

公开(公告)号：CN1853138A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN200480026729.0

申请日：2004-10-07

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 保坂将毅 ,  本间正敏

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有：作为(A)成分的下述通式(1){RCOO(AO)a}mX{O(AO′)bH}n(1)(式中，RCO表示从碳原子数为6～22的脂肪酸中除去了羟基的残基，X表示从至少具有3个羟基的多元醇中除去了羟基的残基，AO及AO′表示碳原子数为2～4的氧化亚烷基，a表示0或大于等于1的数，b表示大于等于1的数，m及n表示大于等于1的数。其中，m及n的和与前述多元醇的羟基数相同)所示的聚醚酯；作为(B)成分的具有阴离子性基团的碱可溶性树脂或其改性物。