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发明公开
通过高频电剌激的应用进行的真皮再生促进方法审中-实审

公开(公告)号：CN116669645A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202180078685.X

申请日：2021-12-14

Applicant: 株式会社资生堂 , 雅门股份有限公司

Inventor： 山田南实 , 入山俊介 , 相马勤 , 山崎谦太朗

IPC: A61B18/12

Abstract: 本发明提供基于通过对皮肤应用高频而获得的真皮干细胞的稳定性改善的美容方法。本发明的美容法包含对皮肤应用高频而提高真皮干细胞的稳定性、和/或使与稳定性有关的基因的表达增强。

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