纯净颗粒发生器
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101500734A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200680008199.6

    申请日:2006-02-22

    Inventor: 魏强

    CPC classification number: B01J10/005

    Abstract: 颗粒发生器能够产生熔点超过几百摄氏度的固体或液体原料的纯净的颗粒。原料在小型腔室中加热以产生蒸汽。加热的氮气或某种惰性气体用来做携带气体,将混合物带入稀释系统。当原料的过饱和度足够高并且超过临界值时,在稀释系统中通过均匀的核化来形成颗粒,颗粒在同样的稀释系统中得到生长。颗粒的不同的尺寸分布和集结能够通过改变稀释参数例如停留时间和稀释率来获得。

    纯净颗粒发生器
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101500734B

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN200680008199.6

    申请日:2006-02-22

    Inventor: 魏强 浅野一郎

    CPC classification number: B01J10/005

    Abstract: 颗粒发生器能够产生熔点超过几百摄氏度的固体或液体原料的纯净的颗粒。原料在小型腔室中加热以产生蒸汽。加热的氮气或某种惰性气体用来做携带气体,将混合物带入稀释系统。当原料的过饱和度足够高并且超过临界值时,在稀释系统中通过均匀的核化来形成颗粒,颗粒在同样的稀释系统中得到生长。颗粒的不同的尺寸分布和集结能够通过改变稀释参数例如停留时间和稀释率来获得。

    大范围连续稀释器
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101180527A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200680011482.4

    申请日:2006-02-10

    Inventor: 魏强 浅野一郎

    CPC classification number: G01N1/2247 G01N1/2252 G01N1/38 G01N2001/2264

    Abstract: 本发明提供一种大范围连续稀释器,该大范围连续稀释器用于稀释含有小颗粒的气体以允许其后用仪器对稀释气进行测量。稀释气入口接收稀释气,样品气入口接收样品气。流量表测量样品气流速。混合器接收并以一定的稀释比混合稀释气和样品气。仪器气流出口从混合气流提供进入仪器的精确定义的气流。补充气入口设置成以控制流速提供进入混合气流的补充气。因为稀释气以控制流速流动,且混合气也以控制流速流动,因此补充气的流速的改变会引起样品气流速的响应性变化,从而允许在需要时连续调节并控制稀释比。

    大范围连续稀释器
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101180527B

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN200680011482.4

    申请日:2006-02-10

    Inventor: 魏强 浅野一郎

    CPC classification number: G01N1/2247 G01N1/2252 G01N1/38 G01N2001/2264

    Abstract: 本发明提供一种大范围连续稀释器,该大范围连续稀释器用于稀释含有小颗粒的气体以允许其后用仪器对稀释气进行测量。稀释气入口接收稀释气,样品气入口接收样品气。流量表测量样品气流速。混合器接收并以一定的稀释比混合稀释气和样品气。仪器气流出口从混合气流提供进入仪器的精确定义的气流。补充气入口设置成以控制流速提供进入混合气流的补充气。因为稀释气以控制流速流动,且混合气也以控制流速流动,因此补充气的流速的改变会引起样品气流速的响应性变化,从而允许在需要时连续调节并控制稀释比。

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