公开(公告)号：CN116368000B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202180073824.X

申请日：2021-11-12

Applicant: 株式会社丰田自动织机 ,  学校法人东京理科大学

Inventor： 佐佐木彩乃 ,  佐藤咲也子 ,  宗像秀典 ,  矶部元成 ,  村松久司 ,  有光晃二

IPC: C09D183/07 ,  C08J7/046 ,  C09D7/63 ,  C09D143/04 ,  C09D4/00 ,  B32B27/36 ,  B32B27/00

Abstract: 涂覆剂具有：包含具备自由基聚合性官能团和烷氧基甲硅烷基的有机硅化合物的膜形成成分，以及构成为照射紫外光时能够产生碱和自由基的膜固化成分。膜固化成分中包含分子结构中不具有离子键的非离子型光碱产生剂。非离子型光碱产生剂的含量相对于100质量份的有机硅化合物为0.1质量份～50质量份。

公开(公告)号：CN116368000A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202180073824.X

申请日：2021-11-12

Applicant: 株式会社丰田自动织机 ,  学校法人东京理科大学

Inventor： 佐佐木彩乃 ,  佐藤咲也子 ,  宗像秀典 ,  矶部元成 ,  村松久司 ,  有光晃二

IPC: B32B27/00

Abstract: 涂覆剂具有：包含具备自由基聚合性官能团和烷氧基甲硅烷基的有机硅化合物的膜形成成分，以及构成为照射紫外光时能够产生碱和自由基的膜固化成分。膜固化成分中包含分子结构中不具有离子键的非离子型光碱产生剂。非离子型光碱产生剂的含量相对于100质量份的有机硅化合物为0.1质量份～50质量份。