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公开(公告)号:CN102020367A
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN201010271673.2
申请日:2010-08-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C02F1/44 , B01D61/022 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/58 , B01D65/02 , B01D2311/04 , B01D2321/08 , C02F1/001 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/444 , C02F2301/08 , B01D2311/2649
Abstract: 根据一个实施例,薄膜过滤系统包括:未净化水罐(2);设置成容纳初级已处理水的第一罐(5);设置成容纳第二级已处理水的第二罐(8);包括纳米过滤薄膜、并且以1%或更多以及30%或更少的溶解物去除率将溶解物从未净化水中去除的纳米过滤薄膜模块(4,41-4n);被设置成将未净化水从未净化水罐供给到模块以使未净化水渗透穿过薄膜并且将已经渗透穿过薄膜的水作为初级已处理水输送到第一罐的第一泵(3);包括进一步将溶解物从初级已处理水中去除的反渗透薄膜的反渗透薄膜模块(7);以及被设置成将初级已处理水从第一罐供给到反渗透薄膜模块以使初级已处理水渗透穿过薄膜并且将已经渗透穿过薄膜的水作为第二级已处理水输送到第二罐的第二泵(6)。
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公开(公告)号:CN100344386C
公开(公告)日:2007-10-24
申请号:CN200510075433.4
申请日:1998-08-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: Y02P20/544 , Y02W30/704
Abstract: 一种废弃物处理方法和废弃物处理装置,将有机或无机废弃物与媒体的混合物在超临界状态保持预定时间,分解有机或无机废弃物中所含的有机物或无机物;媒体的氢离子浓度相对1kg媒体为10-4摩尔以上,其具有将有机废弃物与媒体的混合物在超临界状态保持预定时间,使有机废弃物所含的全部或大部分有机物进行低分子量化的低分子量化工序;使在低分子量化工序生成的生成物与氧化剂混合,在亚临界状态保持预定时间并使其氧化的氧化工序。
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公开(公告)号:CN1302841C
公开(公告)日:2007-03-07
申请号:CN200410057820.0
申请日:2004-08-18
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种有机废物的处理设备包括用于输入并分解有机废物以及将分解的有机废物作为处理过的流体排出的反应容器。反应容器包括由耐腐蚀材料制成的内容器,由耐压材料制成的外容器,外容器通过一个间隙环绕内容器,以及在所述外容器外部用于连接所述间隙和所述内容器的所述连接管,从而控制间隙内部与内容器内部处于实际上相等的压力。内容器具有用于将输入的有机废物加热到高于水的临界点的温度的加热区、用于在高于水的临界点下保持并分解有机废物的反应区、以及用于将含有有机废物分解产物的处理过的流体冷却到低于100℃的冷却区。间隙适于充入高压的水或双氧水。
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公开(公告)号:CN1683091A
公开(公告)日:2005-10-19
申请号:CN200510075433.4
申请日:1998-08-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: Y02P20/544 , Y02W30/704
Abstract: 一种废弃物处理方法和废弃物处理装置,将有机或无机废弃物与媒体的混合物在超临界状态保持预定时间,分解有机或无机废弃物中所含的有机物或无机物;媒体的氢离子浓度相对1kg媒体为10-4摩尔以上,其具有将有机废弃物与媒体的混合物在超临界状态保持预定时间,使有机废弃物所含的全部或大部分有机物进行低分子量化的低分子量化工序;使在低分子量化工序生成的生成物与氧化剂混合,在亚临界状态保持预定时间并使其氧化的氧化工序。
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公开(公告)号:CN1597078A
公开(公告)日:2005-03-23
申请号:CN200410057820.0
申请日:2004-08-18
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种有机废物的处理设备包括用于输入并分解有机废物以及将分解的有机废物作为处理过的流体排出的反应容器。反应容器包括由耐腐蚀材料制成的内容器,由耐压材料制成的外容器,外容器通过一个间隙环绕内容器,以及在所述外容器外部用于连接所述间隙和所述内容器的所述连接管,从而控制间隙内部与内容器内部处于实际上相等的压力。内容器具有用于将输入的有机废物加热到高于水的临界点的温度的加热区、用于在高于水的临界点下保持并分解有机废物的反应区、以及用于将含有有机废物分解产物的处理过的流体冷却到低于100℃的冷却区。间隙适于充入高压的水或双氧水。
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