电磁辅助抛光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118875954A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202411119562.8

    申请日:2024-08-15

    摘要: 本发明提供一种电磁辅助抛光装置,包括主框架、置于主框架上的加工台,所述加工台内侧开设有环形腔室,环形腔室内部具有磁性磨料,所述环形腔室的外侧转动设置有旋转台,且旋转台的转动轴线与环形腔室的轴线重合,旋转台上沿周向间隔布设有若干第一电磁铁,以使第一电磁铁启用时,磁性磨料在环形腔室中形成悬浮区;所述主框架一侧活动设置有样品支架,以使工件置于样品支架上时,工件位于悬浮区中;本发明提高小型工件的抛光效率以及表面均匀性。