公开(公告)号：CN111889323B

公开(公告)日：2021-07-27

申请号：CN202010751669.X

申请日：2020-07-30

Applicant: 暨南大学

Inventor： 侯林涛 ,  管威 ,  蔡婉珠 ,  吴俊涛

IPC: B05C9/14 ,  B05C11/04 ,  B05C11/10 ,  B05D1/40 ,  B05D3/02 ,  B05D3/04

Abstract: 本发明公开一种可真空/气体改性处理的自动刮膜设备及其控制方法，所述自动刮膜设备包括刮膜单元、真空低压/特殊气体改性处理单元、固定成膜单元、控制单元、传动单元和温度控制单元。本发明将真空/特殊气体改性处理与刮膜技术相结合，通过优化刮膜速度、成膜温度、薄膜改性和舱内压强等，实现单一溶液或共混溶液刮涂成膜形貌、厚度及物化性质等有效调控，进而形成最优薄膜质量，实现多种类型器件性能大幅度提升，显著提高其光电性能。本设备自动化操作可保持刮涂成膜的可重复性，可广泛应用于各种不同类型有机/无机半导体光电子器件大面积制备领域。

公开(公告)号：CN111889323A

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN202010751669.X

申请日：2020-07-30

Applicant: 暨南大学

Inventor： 侯林涛 ,  管威 ,  蔡婉珠 ,  吴俊涛

IPC: B05C9/14 ,  B05C11/04 ,  B05C11/10 ,  B05D1/40 ,  B05D3/02 ,  B05D3/04

Abstract: 本发明公开一种可真空/气体改性处理的自动刮膜设备及其控制方法，所述自动刮膜设备包括刮膜单元、真空低压/特殊气体改性处理单元、固定成膜单元、控制单元、传动单元和温度控制单元。本发明将真空/特殊气体改性处理与刮膜技术相结合，通过优化刮膜速度、成膜温度、薄膜改性和舱内压强等，实现单一溶液或共混溶液刮涂成膜形貌、厚度及物化性质等有效调控，进而形成最优薄膜质量，实现多种类型器件性能大幅度提升，显著提高其光电性能。本设备自动化操作可保持刮涂成膜的可重复性，可广泛应用于各种不同类型有机/无机半导体光电子器件大面积制备领域。