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公开(公告)号:CN102076625A
公开(公告)日:2011-05-25
申请号:CN200980124716.X
申请日:2009-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C15/00 , G02F1/1333
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明涉及一种蚀刻方法,对含有选自由Ca、Sr、Ba和Mg组成的组中的一种以上金属的无碱玻璃基板的表面进行蚀刻,其中,使用HF和HCl满足式(A)HF:5质量%以上且低于20质量%,并且HCl:9质量%以上、式(B)HF:20质量%以上且低于30质量%,并且HCl:5质量%以上或式(C)HF:30质量%以上,并且HCl:2质量%以上的条件、并且不含NH4F的蚀刻液,对所述无碱玻璃基板的表面进行蚀刻。
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公开(公告)号:CN107314843A
公开(公告)日:2017-11-03
申请号:CN201710281666.2
申请日:2017-04-26
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供在表面以及背面两个主面上具有功能层、且强度优良的强化玻璃板。本发明的强化玻璃板的特征在于,具备设于第一主面的第一功能层、和设于第二主面的第二功能层,在将拉伸应力层的应力设为CT的情况下,CT的值满足CT>0.8×[-38.7×ln(t/1000)+48.2]。此处,t为板厚[μm],CS为最外表面的压缩应力[MPa],DOL为使压缩应力达到零的自玻璃表面的深度[μm]。
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公开(公告)号:CN101868428A
公开(公告)日:2010-10-20
申请号:CN200880116763.5
申请日:2008-11-14
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C15/00 , G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供以玻璃基板的薄板化为目的、蚀刻速度高并且可以抑制在玻璃基板表面产生雾度的蚀刻处理方法。本发明涉及一种玻璃基板表面的蚀刻处理方法,以1~690μm的蚀刻量对玻璃基板表面进行蚀刻处理,其特征在于,所述蚀刻处理通过HF浓度为1~5重量%、HCl浓度为1重量%以上的蚀刻液进行。
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