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公开(公告)号：CN1314504C
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200510009585.4
申请日：2005-02-24
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: B22F3/162 , B22F3/1208 , B22F2003/248 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F5/003 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/15
Abstract: 本发明公开的是一种制备Mo合金制靶材料的方法，该方法包含下面步骤：(a)通过压制由平均颗粒尺寸不超过20μm的Mo粉末和平均颗粒尺寸不超过500μm的过渡金属粉末组成的原料粉末混合物，制备生坯；(b)粉碎生坯以制备次级粒子，其平均颗粒尺寸为不低于原料粉末混合物的平均颗粒尺寸至不超过10mm；(c)将次级粒子装入到加压用容器中；和(d)对次级粒子和加压用容器在压力下进行烧结，因此得到制靶材料的烧结体。
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公开(公告)号：CN100447290C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200510059476.3
申请日：2005-03-25
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/14
Abstract: 一种溅射靶材料，它是一种烧结材料，其中溅射靶材料由总计0.5～50原子%的选自Ti、Zr、V、Nb和Cr中的至少一种金属元素(M)、及余量的Mo和不可避免的杂质组成，及从与溅射表面垂直的横截面上观察此材料具有的微观结构，其微观结构中在金属元素(M)的各孤岛边界的附近存在氧化物颗粒，及其中孤岛的最大面积不大于1.0mm2，孤岛的面积是通过用直线连接氧化物颗粒形成的封闭区来定义的。
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公开(公告)号：CN1676661A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510059476.3
申请日：2005-03-25
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/045 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/14
Abstract: 一种溅射靶材料，它是一种烧结材料，其中溅射靶材料由总计0.5～50原子％的选自Ti、Zr、V、Nb和Cr中的至少一种金属元素(M)、及余量的Mo和不可避免的杂质组成，及从与溅射表面垂直的横截面上观察此材料具有的微观结构，其微观结构中在金属元素(M)的各孤岛边界的附近存在氧化物颗粒，及其中孤岛的最大面积不大于1.0mm2，孤岛的面积是通过用直线连接氧化物颗粒形成的封闭区来定义的。
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公开(公告)号：CN1660526A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN200510009585.4
申请日：2005-02-24
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: B22F3/162 , B22F3/1208 , B22F2003/248 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F5/003 , B22F1/0003 , B22F1/0096 , B22F3/15
Abstract: 本发明公开的是一种制备Mo合金制靶材料的方法，该方法包含下面步骤：(a)通过压制由平均颗粒尺寸不超过20μm的Mo粉末和平均颗粒尺寸不超过500μm的过渡金属粉末组成的原料粉末混合物，制备生坯；(b)粉碎生坯以制备次级粒子，其平均颗粒尺寸为不低于原料粉末混合物的平均颗粒尺寸至不超过10mm；(c)将次级粒子装入到加压用容器中；和(d)对次级粒子和加压用容器在压力下进行烧结，因此得到制靶材料的烧结体。
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