一种低能耗、短流程制备羟基氧化镓的方法

    公开(公告)号:CN116143166A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202310047517.5

    申请日:2023-01-31

    Abstract: 本发明属于有色金属冶金技术领域,具体涉及一种低能耗、短流程制备羟基氧化镓的方法,本发明提供羟基氧化镓的制备方法设计科学合理,在超声环境中,常压条件下使金属镓与去离子水直接发生反应,一步制备高纯羟基氧化镓粉体材料。本发明技术方案能够克服现有羟基氧化镓制备工艺流程长、试剂消耗量大、对设备要求高、产品纯度和物理规格难以达标等问题,具有操作简单、对设备要求低、流程短、效率高、能耗低、成本低等特点,制备得到的羟基氧化镓粉体颗粒尺寸和微观形貌均匀,是一种优良的生产第四代半导体材料的前驱体。

    一种短流程制备高纯氧化镓的方法

    公开(公告)号:CN116409813B

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202310047522.6

    申请日:2023-01-31

    Abstract: 本发明属于有色金属冶金技术领域,具体涉及一种短流程制备高纯氧化镓的方法,本发明提供的高纯氧化镓制备方法设计科学合理,在常压条件下,将高纯金属镓加入去离子水中,同时向体系中加入双氧水,在机械搅拌条件下使金属镓转化为羟基氧化镓;采用有机溶剂对羟基氧化镓前驱体进行预处理,然后对其高温煅烧制备微观形貌和颗粒尺寸均一的高纯β‑Ga2O3粉体材料。本发明能够克服现有氧化镓制备工艺流程长、试剂消耗量大、对设备要求高、煅烧制备氧化镓粉体过程颗粒团聚、长大、失去表面活性等问题,技术方案具有流程短、效率高、对设备要求低、操作简单、能耗低、成本低等特点,整个生产过程不产废气、废渣、废水,对环境友好。

    一种低共熔溶剂体系处理ITO废靶高效回收金属铟和氧化锡的方法

    公开(公告)号:CN115491494A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211136117.3

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种低共熔溶剂体系处理ITO废靶高效回收金属铟和氧化锡的方法,属于有色金属冶金技术领域。本发明采用低共熔溶剂对ITO废靶粉末进行浸出,使ITO废靶中的In2O3发生选择性溶解,而SnO2则不发生反应,富集于浸出渣中,实现铟和锡的高效分离。对浸出矿浆进行过滤,滤渣为纯净的SnO2产品;对滤液进行直流电解,使溶液中溶解的In3+在阴极得到电子,还原得到金属铟产品。本发明充分利用低共熔溶剂对In2O3具有高选择溶解性以及具有较宽的电化学窗口的特性,以之作为基础体系处理ITO废靶,分别回收金属铟和SnO2产品,具有流程短、效率高、成本低、铟和锡回收率高、产品纯度高等特点。

    一种高效制备羟基氧化镓的方法

    公开(公告)号:CN116199251B

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202310054518.2

    申请日:2023-02-03

    Abstract: 本发明属于有色金属冶金技术领域,具体涉及一种高效制备羟基氧化镓的方法,本发明提供的的羟基氧化镓制备方法设计科学合理,在常压条件下,将金属镓加入去离子水中,同时向体系中鼓入氧气或空气,在机械搅拌条件下使金属镓转化为羟基氧化镓。本发明技术方案能够克服现有羟基氧化镓制备工艺流程长、试剂消耗量大、对设备要求高、产品纯度和物理规格难以达标等问题,具有对设备要求低、操作简单、能耗低、流程短、效率高、成本低等特点,可以实现高纯羟基氧化镓粉体材料的高效短流程制备。

    一种高效制备羟基氧化镓的方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116199251A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310054518.2

    申请日:2023-02-03

    Abstract: 本发明属于有色金属冶金技术领域,具体涉及一种高效制备羟基氧化镓的方法,本发明提供的的羟基氧化镓制备方法设计科学合理,在常压条件下,将金属镓加入去离子水中,同时向体系中鼓入氧气或空气,在机械搅拌条件下使金属镓转化为羟基氧化镓。本发明技术方案能够克服现有羟基氧化镓制备工艺流程长、试剂消耗量大、对设备要求高、产品纯度和物理规格难以达标等问题,具有对设备要求低、操作简单、能耗低、流程短、效率高、成本低等特点,可以实现高纯羟基氧化镓粉体材料的高效短流程制备。

    一种基于熔盐电化学高效分离回收ITO废靶中铟和锡的方法

    公开(公告)号:CN115261930A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210732796.4

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于熔盐电化学高效分离回收ITO废靶中铟和锡的方法,属于有色金属冶金技术领域。本发明的一种基于熔盐电化学高效分离回收ITO废靶中铟和锡的方法,直接采用ITO废靶块料作为阴极,石墨作为阳极,在熔盐中进行直流电解使ITO废靶中的氧原子得到电子形成氧离子进入电解质而从阴极上脱除,直接获得液态铟锡合金;进一步将还原得到的铟锡合金作为阳极在该熔盐体系中、相同温度下进行直流电解,通过控制电化学条件使铟在阳极被选择性氧化,并进一步在阴极被还原为金属铟,实现铟锡高效分离,同时在阴、阳极分别获得高纯金属铟和锡。本发明具有流程短、成本低、铟和锡回收率高、产品纯度高等特点。

    一种常压下从氮化镓废料中回收金属镓的方法

    公开(公告)号:CN113667839A

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202110962665.0

    申请日:2021-08-20

    Abstract: 本发明公开了一种常压下从氮化镓废料中回收金属镓的方法,属于有色金属冶金技术领域。本发明的方法是通过在常压条件下碱性体系中加入氧化剂对氮化镓废料进行氧化浸出,使镓发生溶解进入浸出液,而氮则被氧化为对环境友好的N2进入气相,实现镓和氮两种元素的有效分离;然后对含镓浸出液直接进行电解,通过准确控制电化学条件,使镓在阴极还原析出,同时避免杂质离子析出,获得金属镓产品。采用本发明的技术方案从氮化镓废料中回收稀散金属镓,具有镓回收率高、工艺简单、成本低、对环境友好等特点,有效实现了氮化镓废料的短流程高效综合回收。

    一种短流程制备高纯氧化镓的方法

    公开(公告)号:CN116409813A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202310047522.6

    申请日:2023-01-31

    Abstract: 本发明属于有色金属冶金技术领域,具体涉及一种短流程制备高纯氧化镓的方法,本发明提供的高纯氧化镓制备方法设计科学合理,在常压条件下,将高纯金属镓加入去离子水中,同时向体系中加入双氧水,在机械搅拌条件下使金属镓转化为羟基氧化镓;采用有机溶剂对羟基氧化镓前驱体进行预处理,然后对其高温煅烧制备微观形貌和颗粒尺寸均一的高纯β‑Ga2O3粉体材料。本发明能够克服现有氧化镓制备工艺流程长、试剂消耗量大、对设备要求高、煅烧制备氧化镓粉体过程颗粒团聚、长大、失去表面活性等问题,技术方案具有流程短、效率高、对设备要求低、操作简单、能耗低、成本低等特点,整个生产过程不产废气、废渣、废水,对环境友好。

    一种低共熔溶剂体系处理ITO废靶高效回收金属铟和氧化锡的方法

    公开(公告)号:CN115491494B

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202211136117.3

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种低共熔溶剂体系处理ITO废靶高效回收金属铟和氧化锡的方法,属于有色金属冶金技术领域。本发明采用低共熔溶剂对ITO废靶粉末进行浸出,使ITO废靶中的In2O3发生选择性溶解,而SnO2则不发生反应,富集于浸出渣中,实现铟和锡的高效分离。对浸出矿浆进行过滤,滤渣为纯净的SnO2产品;对滤液进行直流电解,使溶液中溶解的In3+在阴极得到电子,还原得到金属铟产品。本发明充分利用低共熔溶剂对In2O3具有高选择溶解性以及具有较宽的电化学窗口的特性,以之作为基础体系处理ITO废靶,分别回收金属铟和SnO2产品,具有流程短、效率高、成本低、铟和锡回收率高、产品纯度高等特点。

    一种低共熔溶剂体系中ITO废靶直接电解制备铟锡合金的方法

    公开(公告)号:CN115386918A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211136362.4

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种低共熔溶剂体系中ITO废靶直接电解制备铟锡合金的方法,属于有色金属冶金技术领域。本发明直接采用ITO废靶块料作为阴极,石墨作为阳极,在低共熔溶剂体系中进行直流电解,在电场作用下使ITO废靶中的氧原子得到电子形成氧离子进入电解质而从阴极上脱除,直接获得铟锡合金产品。本发明充分利用ITO废靶导电性良好的特性,通过一步电解工艺制备铟锡合金,具有工艺简单、成本低、铟和锡回收率高等特点,且获得的铟锡合金既可以直接用作生产ITO靶材的原料,亦可以进一步处理分离回收铟和锡金属产品,工艺灵活,有价元素综合回收率高。

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