公开(公告)号：CN116516296A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202310107194.4

申请日：2023-01-31

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 清水雄介 ,  冈本英介

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明涉及掩模的检查方法、掩模的制造方法、掩模的检查装置、记录介质和掩模。本发明提供一种掩模的检查方法，其可以具备下述工序：第1计算工序，计算出y方向上的基准点的坐标的y分量y0～yn；调整工序，对施加至掩模的张力进行调整，以使得基于y分量y0～yn计算出的单纯振幅换算值ΔC为第1阈值以下；以及第2评价工序，基于被施加了在调整工序中进行了调整的张力的状态的掩模的基准点的坐标的y分量而计算出振幅ΔS，基于该振幅ΔS对掩模的线性进行评价。

公开(公告)号：CN119175450A

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN202410808074.1

申请日：2024-06-21

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 清水雄介 ,  妹尾祐辉

IPC: B23K26/21 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H10K71/16 ,  B23K26/70

Abstract: 本发明提供掩模装置的制造方法和掩模装置。掩模装置的制造方法可以具备：准备框架的工序，该框架包含框架第1面、和位于框架第1面的相反侧的框架第2面；以及焊接工序，将掩模焊接于框架第1面，该掩模包含面向框架第1面的第2面、位于第2面的相反侧的第1面、以及从第1面到达第2面的多个贯通孔。焊接工序也可以包含通过向第1面照射具有单模的激光而在掩模上形成多个焊接部的照射工序。