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公开(公告)号：CN114949278A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202111666176.7
申请日：2021-12-31
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 青木徹郎 , 中川浩和 , 林田进一
IPC: A61L2/10 , A61L2/26
Abstract: 紫外线照射装置包括：收纳体，其形成用于收纳照射紫外线的对象物的收纳空间；以及基板，其设有朝向被收纳于所述收纳体的所述对象物照射紫外线的发光二极管。所述收纳体与所述基板相接，且将从所述发光二极管照射的所述紫外线反射到所述收纳空间。
