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公开(公告)号：CN106842617A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710022994.0
申请日：2012-12-06
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司 , 皮埃尔与玛丽·居里-巴黎第六大学
IPC: G02C7/10
CPC classification number: G02B5/223 , G02B5/285 , G02C7/027 , G02C7/104 , G02C7/105 , G02C7/107 , G02C7/108 , G02C2202/10
Abstract: 一种光学器件，包括：一个配备有选择性滤光装置的光学基片，该选择性滤光装置被配置成用于以一个至少5％的抑制率选择性地抑制可见光谱内的入射光的至少一个选择波长范围，该选择性滤光装置被进一步配置成用于透射该至少一个选择波长范围以外的可见光谱的入射光的至少8％；其中，该至少一个选择波长范围具有从10nm到70nm、优选地10nm到60nm的一个范围内的以430nm与465nm之间的一个范围内的一个波长为中心的一个带宽。
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公开(公告)号：CN102449507A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080022914.8
申请日：2010-03-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/00 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02C7/00 , G02C7/02 , G02C7/104 , Y10T428/265 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明涉及一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，所述导电层含有至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后测定该吸水率。
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公开(公告)号：CN103998974B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201280060062.0
申请日：2012-12-06
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司 , 皮埃尔与玛丽·居里-巴黎第六大学
IPC: G02C7/10
CPC classification number: G02B5/223 , G02B5/285 , G02C7/027 , G02C7/104 , G02C7/105 , G02C7/107 , G02C7/108 , G02C2202/10
Abstract: 一种光学器件，包括：一个配备有选择性滤光装置的光学基片，该选择性滤光装置被配置成用于以一个至少5％的抑制率选择性地抑制可见光谱内的入射光的至少一个选择波长范围，该选择性滤光装置被进一步配置成用于透射该至少一个选择波长范围以外的可见光谱的入射光的至少8％；其中，该至少一个选择波长范围具有从10nm到70nm、优选地10nm到60nm的一个范围内的以430nm与465nm之间的一个范围内的一个波长为中心的一个带宽。
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公开(公告)号：CN104903773A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380068386.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B27/00
CPC classification number: G02B1/18 , G02B27/0006 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明针对一种用于制造光学物品的方法，该方法包括以下步骤：提供一个基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团，依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种不同的材料，被称为M1和M2，M1具有高于M2的重均分子量，在一个真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下，并且其中：M1是一种取代的硅烷，包含：至少一个结合到硅原子上的官能团X1，其中该Si-X1基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M2形成一个共价键，以及至少一个含氟基团，M2是一种具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含：至少一个结合到硅原子上的官能团X2，其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M1形成一个共价键，以及至少一个疏水和/或疏油基团，或至少一个亲水基团，其中M1的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol。
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公开(公告)号：CN102449507B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080022914.8
申请日：2010-03-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/00 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02C7/00 , G02C7/02 , G02C7/104 , Y10T428/265 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明涉及一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，所述导电层含有至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后测定该吸水率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103998974A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280060062.0
申请日：2012-12-06
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司 , 皮埃尔与玛丽·居里-巴黎第六大学
IPC: G02C7/10
CPC classification number: G02B5/223 , G02B5/285 , G02C7/027 , G02C7/104 , G02C7/105 , G02C7/107 , G02C7/108 , G02C2202/10
Abstract: 一种光学器件，包括：一个配备有选择性滤光装置的光学基片，该选择性滤光装置被配置成用于以一个至少5％的抑制率选择性地抑制可见光谱内的入射光的至少一个选择波长范围，该选择性滤光装置被进一步配置成用于透射该至少一个选择波长范围以外的可见光谱的入射光的至少8％；其中，该至少一个选择波长范围具有从10nm到70nm、优选地10nm到60nm的一个范围内的以430nm与465nm之间的一个范围内的一个波长为中心的一个带宽。
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公开(公告)号：CN100503499C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN03821885.2
申请日：2003-07-02
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: B24B9/144 , B24B13/005 , C03C17/3452 , C03C17/42 , C03C2217/734 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C03C2218/11 , C03C2218/151 , C03C2218/355 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B1/18 , Y10T428/265
Abstract: 一种处理眼科透镜的方法，该眼科透镜含有两个侧主面，其中至少一面包含涂有MgF2临时保护层的有机或矿物外层，所述方法包括选自下列步骤的特有处理步骤：-对临时保护层进行液相化学处理，从而在该临时保护层中和/或保护层上形成MgO和/或Mg(OH)2，-通过从静电膜上转移至少一种非氟化金属氧化物和/或至少一种非氟化金属氢氧化物，或通过将其直接真空蒸镀到临时保护层上，从而将其沉积在临时保护层上，-MgF2临时保护层在外层上的沉积是以小于0.5纳米/秒、优选小于或等于0.3纳米/秒的速度通过真空蒸镀进行。
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公开(公告)号：CN106457705A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201480078719.5
申请日：2014-05-20
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/14 , B24B9/14 , B29D11/00942 , B32B37/1292 , B32B2323/04 , B32B2551/00 , G02B1/18 , G02C7/02 , G02C2202/16
Abstract: 根据本发明的光学镜片包括：(i)至少部分地覆盖该镜片的表面的用于保护免于降解的临时涂层，所述临时保护性涂层包括通过摩擦和/或接触可机械地降解的最外层，以及(ii)具有第一侧和第二侧的可去除的膜，该膜通过其第一侧粘附到该临时保护性涂层的所述最外层上，该可去除的膜的该第一侧具有至少一个表面部分，该至少一个表面部分当被施用到该临时保护性涂层的所述最外层上时包括跨越所述表面部分分布的至少一个附着区和至少一个非附着区。
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公开(公告)号：CN103930590A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201280055044.3
申请日：2012-11-09
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
IPC: C23C14/24 , C23C16/448
CPC classification number: C23C14/243 , B29D11/00865 , C23C16/4485
Abstract: 本发明提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个将所述光学涂层液体合成物引入到其内的坩埚；其中所述支持件(30)进一步包括一个形成封套的框架(36，37)，所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内；所述框架(36，37)具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物，并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30)构成光学涂层液体合成物的一个匣。
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公开(公告)号：CN1226216C
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN02801705.6
申请日：2002-05-17
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: C03C17/42 , C03C17/00 , C03C2217/76 , C03C2218/355 , Y10T83/0443 , Y10T428/31504
Abstract: 本发明涉及一种制备一用于边缘研磨并包括一疏水性和/或拒油性表面涂层的光学镜片的方法。本发明特征在于上述镜片表面之上淀积一临时保护层以给镜片提供一不小于15mJ/m2的表面能。
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