一种月面基地保护结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119466156A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411739894.6

    申请日:2024-11-29

    Abstract: 一种月面基地保护结构,涉及月球基地建设领域。为解决大温差、强辐射等因素会对月面基地造成严重影响的问题。本发明包括支架和保护膜,支架具有平行间隔设置的至少两个,多个支架固定安装在月面上,保护膜安装在相邻两个支架之间,保护膜遮挡在月面基地的正方上,通过保护膜对月面基地进行保护,保护膜能够抵御陨石撞击、隔离辐射、减小温差,将保护膜安装在相邻两个支架上且遮挡在月面基地的正上方,保护膜能够在强辐射、大温差和频繁陨石撞击等月面高风险环境中提供良好的庇护,减轻设备自身对防辐射和热控的严苛要求,同时避免月球熔洞分布区域受限、内部探测困难、地理环境地质结构未知等依托天然熔洞建造月球基地的困难。

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