公开(公告)号：CN114470471B

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN202210132914.8

申请日：2022-02-14

Applicant: 哈尔滨学院

Inventor： 单珊 ,  白晶

IPC: A61M21/00

Abstract: 本发明涉及发泄装置，更具体的说是一种情绪发泄装置，包括底座、旋转机构、伸展机构、摆动机构、抱紧机构Ⅰ、打击机构、抱紧机构Ⅱ和锁紧机构；所述底座包括支撑座和旋转支座，所述旋转机构包括旋转支架和升降丝杆，所述伸展机构包括伸展支架、伸展丝杆、伸展推块、挤压连杆、伸展环和传感器Ⅰ，所述摆动机构包括摆动盘、摆动支架、摩擦盘Ⅰ、圆弧压板Ⅰ和传感器Ⅱ，所述打击机构包括打击支架、发泄拳袋、圆弧压板Ⅱ和摩擦盘Ⅱ，通过旋转机构进行旋转，进而更换打击机构的位置，通过伸展机构调整打击机构伸出的位置，进而根据不同的使用需求调整打击的位置。

公开(公告)号：CN114470471A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202210132914.8

申请日：2022-02-14

Applicant: 哈尔滨学院

Inventor： 单珊 ,  白晶

IPC: A61M21/00

Abstract: 本发明涉及发泄装置，更具体的说是一种情绪发泄装置，包括底座、旋转机构、伸展机构、摆动机构、抱紧机构Ⅰ、打击机构、抱紧机构Ⅱ和锁紧机构；所述底座包括支撑座和旋转支座，所述旋转机构包括旋转支架和升降丝杆，所述伸展机构包括伸展支架、伸展丝杆、伸展推块、挤压连杆、伸展环和传感器Ⅰ，所述摆动机构包括摆动盘、摆动支架、摩擦盘Ⅰ、圆弧压板Ⅰ和传感器Ⅱ，所述打击机构包括打击支架、发泄拳袋、圆弧压板Ⅱ和摩擦盘Ⅱ，通过旋转机构进行旋转，进而更换打击机构的位置，通过伸展机构调整打击机构伸出的位置，进而根据不同的使用需求调整打击的位置。