公开(公告)号：CN111751299B

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202010179993.9

申请日：2020-03-16

Applicant: 古野电气株式会社

Inventor： 富永义树 ,  小松真也

IPC: G01N21/27 ,  G01N21/01

Abstract: 本申请提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。分析装置(1)具备：比色皿台(3)，通过将比色皿(2)的列以环状配置而成；驱动部(4)，使比色皿的列旋转；测光部(5)，对经过测光位置(P)的各比色皿照射光，对来自各比色皿的出射光进行测光；分析部(75)，基于测光数据(D1)对比色皿的收容物进行分析；可测定区域检测部(72)，在被照射区域(R1)之中，将出射光的变化量为规定变化量以下的比色皿的区域检测为可测定区域(R2)；以及基准定时设定部(73)，将可测定区域中包含的第1基准点(P1)经过测光位置的时刻，分别设定为用于确定在分析中使用的分析对象区域(R4)的基准定时。

公开(公告)号：CN111751299A

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN202010179993.9

申请日：2020-03-16

Applicant: 古野电气株式会社

Inventor： 富永义树 ,  小松真也

IPC: G01N21/27 ,  G01N21/01

Abstract: 本申请提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。分析装置(1)具备：比色皿台(3)，通过将比色皿(2)的列以环状配置而成；驱动部(4)，使比色皿的列旋转；测光部(5)，对经过测光位置(P)的各比色皿照射光，对来自各比色皿的出射光进行测光；分析部(75)，基于测光数据(D1)对比色皿的收容物进行分析；可测定区域检测部(72)，在被照射区域(R1)之中，将出射光的变化量为规定变化量以下的比色皿的区域检测为可测定区域(R2)；以及基准定时设定部(73)，将可测定区域中包含的第1基准点(P1)经过测光位置的时刻，分别设定为用于确定在分析中使用的分析对象区域(R4)的基准定时。