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公开(公告)号：CN118007245A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202410157259.0
申请日：2024-02-04
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于金刚石加工技术领域，提供了一种电感耦合等离子体高效平坦化加工多晶金刚石的方法，该方法采用大气等离子体加工设备实现，所述方法包括以下步骤：将清洁并干燥的多晶金刚石置于载物台上，该载物台位于大气环境中；经由大气等离子体加工设备，向多晶金刚石待加工表面同时输入作为反应气体的氧气、作为辅助反应气体的第一氩气和作为冷却气体的第二氩气；当所有气体的输入流量稳定后，向大气等离子体加工设备通电，利用高频电流激发混合后的氧气和第一氩气形成等离子体对待加工表面照射刻蚀。本发明能在大气环境下通过化学反应和物理轰击同时进行来快速刻蚀去除金字塔型粗糙结构，整体抛光工艺步骤简便，照射刻蚀效率高。
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公开(公告)号：CN119057678A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202411403673.1
申请日：2024-10-09
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于材料加工技术领域，具体公开了一种紫外线辅助高效抛光金刚石的加工方法，包括：将待抛光金刚石样品相对于可运动的抛光材料表面进行定位；在内部压力值为0.2~1.5torr、具有氧化性气氛且施加紫外光照射的密闭环境中，使待抛光金刚石样品与可运动的抛光材料的表面接触，使抛光材料表面旋转或者同时使待抛光金刚石样品和抛光材料表面旋转，进行抛光。待抛光金刚石样品表面在低压、紫外线、氧化性自由基、机械摩擦等多重作用下，可实现金刚石的高效无损抛光。此外，本发明提供了一种金刚石的抛光装置。
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公开(公告)号：CN116141086B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202310185936.5
申请日：2023-02-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明提供了一种激光诱导石墨化促进金刚石抛光的装置及方法，属于金刚石抛光领域，该装置包括激光器以及从上至下依次设置的传动轴、玻璃、金属抛光盘和旋转载物台，其中：激光器用于发射激光；传动轴中间开孔，该传动轴下方开槽用于固定玻璃；玻璃的下方开槽用于固定金刚石；金属抛光盘固定在旋转载物台的上方，并与金刚石待抛光面以预设压力接触，用于对金刚石进行抛光。本发明利用激光依次穿过玻璃和金刚石后聚焦到金属抛光盘上以对其进行烧蚀，并诱导金刚石待抛光面石墨化，同时利用金属抛光盘的摩擦作用去除石墨化的金刚石以实现抛光，进而使得激光诱导石墨化与摩擦抛光同时进行，有效提高抛光效率，实现金刚石的高效率低损伤超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN116141086A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310185936.5
申请日：2023-02-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明提供了一种激光诱导石墨化促进金刚石抛光的装置及方法，属于金刚石抛光领域，该装置包括激光器以及从上至下依次设置的传动轴、玻璃、金属抛光盘和旋转载物台，其中：激光器用于发射激光；传动轴中间开孔，该传动轴下方开槽用于固定玻璃；玻璃的下方开槽用于固定金刚石；金属抛光盘固定在旋转载物台的上方，并与金刚石待抛光面以预设压力接触，用于对金刚石进行抛光。本发明利用激光依次穿过玻璃和金刚石后聚焦到金属抛光盘上以对其进行烧蚀，并诱导金刚石待抛光面石墨化，同时利用金属抛光盘的摩擦作用去除石墨化的金刚石以实现抛光，进而使得激光诱导石墨化与摩擦抛光同时进行，有效提高抛光效率，实现金刚石的高效率低损伤超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN116121878A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202310163273.7
申请日：2023-02-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于超精密加工领域，并公开了一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法，方法的具体步骤包括：在清洁后的单晶金刚石表面离子镀特定厚度的金属薄膜；利用纳秒脉冲激光对金属薄膜进行烧蚀，当金属薄膜被完全烧蚀后，继续烧蚀，直至所述单晶金刚石上生成石墨层。本发明能够通过在金刚石表面镀金属薄膜，使用合适能量的纳秒脉冲激光烧蚀单晶金刚石，以在单晶金刚石表面形成均匀的石墨层，从而实现对单晶金刚石的均匀化激光烧蚀。
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