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发明公开
用于激光聚变的入射激光处理方法、系统及激光装置审中-实审

公开(公告)号：CN116487981A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202211357410.2

申请日：2022-11-01

Applicant: 北京应用物理与计算数学研究所

Inventor： 沈百飞 , 蓝可 , 郭易 , 张晓梅

IPC: H01S3/10 , H01S3/23 , H01S5/062 , H01S5/40 , G21B1/03 , G21B1/19

Abstract: 本发明实施例中公开了一种用于激光聚变的入射激光处理方法、系统及激光装置。其中，方法包括：接收来自激光装置的初始入射激光；对所述初始入射激光进行角动量去相干处理，得到用于注入到激光聚变黑腔内的目标入射激光。本发明实施例中的技术方案能够降低激光等离子体不稳定性，提高激光吸收效率。

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