公开(公告)号：CN220994018U

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202322553168.2

申请日：2023-09-20

Applicant: 北京市科学技术研究院分析测试研究所(北京市理化分析测试中心)

Inventor： 闫志勇 ,  陈婧瑶 ,  杨超杰 ,  黎爽 ,  杨颖 ,  范文浩 ,  邓平晔

IPC: B24B29/00 ,  B24B41/06 ,  B24B47/12 ,  B24B47/22 ,  B24B51/00 ,  B24B41/00

Abstract: 本实用新型公开了一种可预设轨迹的自动批量研磨、抛光装置，属于研磨抛光技术领域，其包括支撑板和支撑架，所述支撑板与所述支撑架的一端固定连接；抛光组件，所述抛光组件设置在所述支撑板上，用于对样品进行抛光；夹持组件，所述夹持组件设置在所述抛光组件的上方，并与所述支撑架远离所述支撑板的一端固定连接，用于夹持样品；智能控制终端，所述智能控制终端设置在所述支撑架上，用于控制抛光组件与研磨组件对样品进行研磨抛光。本实用新型大大减少重复的人工劳动成本，提升研磨效率，同时还能确保研磨结果的一致性。