公开(公告)号：CN113491018A

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN202080016893.2

申请日：2020-02-25

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 川下雅史 ,  小田由香里 ,  安祐树 ,  石丸佳子

IPC: H01L33/50 ,  H01L33/60 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G09F9/30 ,  G09F9/33 ,  H01L27/32 ,  F21S2/00 ,  F21V9/20 ,  F21V9/32 ,  H05B33/02 ,  H05B33/12 ,  H01L51/50 ,  F21Y115/10 ,  F21Y115/15

Abstract: 在波长选择滤光器中，第1高折射率部的厚度设为T1，第2高折射率部的厚度设为T2，高折射率层的材料的折射率设为n1，凹凸构造层的材料的折射率设为n2，埋设层的材料的折射率设为n3，第1高折射率部的面积比率设为R1，第2高折射率部的面积比率设为R2。n1>n2、n1>n3且R1+R2>1，T1×{n1×R1+n2×(1‑R1)}的值为第1参数，T2×{n1×R2+n3×(1‑R2)}的值为第2参数，第2参数相对于第1参数之比大于或等于0.7且小于或等于1.3。

公开(公告)号：CN111344611A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201880072865.5

申请日：2018-11-30

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 波木井秀充 ,  川下雅史 ,  小田由香里 ,  内田朋也

IPC: G02B5/30 ,  B42D25/30 ,  G02B27/00 ,  G09F19/14

Abstract: 提供显示体、带显示体的设备以及显示体的制造方法，该显示体能够根据观察条件而目视确认到互不相同的外观像，能够提高基于反射光或透射光的像的波长选择性，并且具有抗菌性。显示体具有周期性构造体，该周期性构造体是具有支撑部以及多个周期性要素的介电质，所述支撑部具有基准面，所述多个周期性要素在基准面以具有副波长周期的二维格栅状而排列，所述周期性要素是从基准面凸出的凸部或者相对于基准面凹陷的凹部。并且，显示体具有金属层，该金属层位于作为包含基准面中的将周期性要素包围的区域以及周期性要素的表面在内的面的周期性构造体的表面，具有追随周期性构造体的表面形状的形状，沿着作为多个所述周期性要素以二维格栅状排列的方向的第1方面的周期性要素之间的间隙距离，与沿着与第1方向相交叉的第2方向的所述周期性要素之间的间隙距离不同。

公开(公告)号：CN113491018B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202080016893.2

申请日：2020-02-25

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 川下雅史 ,  小田由香里 ,  安祐树 ,  石丸佳子

IPC: H01L33/50 ,  H01L33/60 ,  G02B5/18 ,  G02B5/20 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G09F9/30 ,  G09F9/33 ,  H10K59/38 ,  H10K50/85 ,  F21S2/00 ,  F21V9/20 ,  F21V9/32 ,  H05B33/02 ,  H05B33/12 ,  F21Y115/10 ,  F21Y115/15

Abstract: 在波长选择滤光器中，第1高折射率部的厚度设为T1，第2高折射率部的厚度设为T2，高折射率层的材料的折射率设为n1，凹凸构造层的材料的折射率设为n2，埋设层的材料的折射率设为n3，第1高折射率部的面积比率设为R1，第2高折射率部的面积比率设为R2。n1>n2、n1>n3且R1+R2>1，T1×{n1×R1+n2×(1‑R1)}的值为第1参数，T2×{n1×R2+n3×(1‑R2)}的值为第2参数，第2参数相对于第1参数之比大于或等于0.7且小于或等于1.3。

公开(公告)号：CN113950632B

公开(公告)日：2024-06-14

申请号：CN202080042897.8

申请日：2020-06-26

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 川下雅史 ,  小田由香里

IPC: G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G02B5/18 ,  H01L27/146 ,  H04N25/70

Abstract: 光学设备具有：凹凸构造层，其在表面具有以亚波长周期排列的多个凸部构成的凹凸构造；高折射率层，其位于凹凸构造上而具有追随该凹凸构造的表面形状；以及低折射率层，其位于所述高折射率层上而具有追随该高折射率层的表面的凹凸的表面形状。高折射率层包含位于凹凸构造的底部而构成亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于凹凸构造的顶部而构成亚波长格栅的第2格栅高折射率部。高折射率层的折射率高于凹凸构造层以及低折射率层各自的折射率。

公开(公告)号：CN114829992A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202180007335.4

申请日：2021-02-05

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 小田由香里 ,  川下雅史 ,  石丸佳子 ,  下村温纱

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/18

Abstract: 光学设备具有：凹凸构造层，其在表面具有凹凸构造，该凹凸构造是以亚波长周期排列的多个凸部或多个凹部中的任一者；高折射率层，其由折射率高于所述凹凸构造层的材料构成，位于所述凹凸构造上而具有追随所述凹凸构造的形状的表面；以及低折射率层，其由折射率低于所述高折射率层的材料构成，位于所述高折射率层上。高折射率层包含位于所述凹凸构造的底部而形成第1亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于所述凹凸构造的顶部而形成第2亚波长格栅的第2格栅高折射率部。所述凹凸构造层以及所述低折射率层中的任一者具有规定的波长范围的光的吸收性，或者所述光学设备具有追加层，该追加层具有所述规定的波长范围的光的吸收性。

公开(公告)号：CN113950632A

公开(公告)日：2022-01-18

申请号：CN202080042897.8

申请日：2020-06-26

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 川下雅史 ,  小田由香里

IPC: G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G02B5/18 ,  H01L27/146 ,  H04N5/369

Abstract: 光学设备具有：凹凸构造层，其在表面具有以亚波长周期排列的多个凸部构成的凹凸构造；高折射率层，其位于凹凸构造上而具有追随该凹凸构造的表面形状；以及低折射率层，其位于所述高折射率层上而具有追随该高折射率层的表面的凹凸的表面形状。高折射率层包含位于凹凸构造的底部而构成亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于凹凸构造的顶部而构成亚波长格栅的第2格栅高折射率部。高折射率层的折射率高于凹凸构造层以及低折射率层各自的折射率。