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发明公开
光学设备以及光学设备的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN114829992A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202180007335.4

申请日：2021-02-05

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 小田由香里 , 川下雅史 , 石丸佳子 , 下村温纱

IPC: G02B5/28 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02B5/18

Abstract: 光学设备具有：凹凸构造层，其在表面具有凹凸构造，该凹凸构造是以亚波长周期排列的多个凸部或多个凹部中的任一者；高折射率层，其由折射率高于所述凹凸构造层的材料构成，位于所述凹凸构造上而具有追随所述凹凸构造的形状的表面；以及低折射率层，其由折射率低于所述高折射率层的材料构成，位于所述高折射率层上。高折射率层包含位于所述凹凸构造的底部而形成第1亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于所述凹凸构造的顶部而形成第2亚波长格栅的第2格栅高折射率部。所述凹凸构造层以及所述低折射率层中的任一者具有规定的波长范围的光的吸收性，或者所述光学设备具有追加层，该追加层具有所述规定的波长范围的光的吸收性。

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