公开(公告)号：CN117500844A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280042632.7

申请日：2022-06-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直

IPC: C08B37/16

Abstract: 提供下述有机聚硅氧烷改性环糊精化合物和将其配混的化妆料。有机聚硅氧烷改性环糊精化合物，是由下述式(1)[式中，R独立地为氢原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～22的羧酸酯残基、由下述式(2)表示的基团、或由下述式(3)表示的基团，X为‑CH2CH2O‑或‑CH2CH(CH3)O‑，m为0或1。]表示的糖单元构成的有机聚硅氧烷改性环糊精化合物，调整了取代基的量。

公开(公告)号：CN117425680A

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202280040199.3

申请日：2022-06-03

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直

IPC: C08B37/16 ,  A61Q17/04 ,  A61Q1/10 ,  A61K8/73

Abstract: 有机聚硅氧烷改性环糊精化合物，其由下述式(1)[式中，R为氢原子、由下述式(2)(式中，R1为选自碳原子数1～8的烷基、碳原子数1～8的氟取代烷基、和碳原子数6～12的芳基中的基团，n为1～10的整数，a为0～3的整数。)表示的基团、或由下述式(3)(式中，X为2价的有机基团，＊为与其他的糖单元的羟基键合的键合端。)表示的基团。]所示的糖单元构成，氢原子的摩尔数NH、由上述式(2)表示的基团的摩尔数NS、由上述式(3)表示的基团的摩尔数NL的比为NH：NS：NL＝0.5～2.5：0.3～2.0：0.1～0.5，NH+NS+NL＝3.0。

公开(公告)号：CN108623809B

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN201810217535.2

申请日：2018-03-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 安部拓矢 ,  小西将幸 ,  早川知宏 ,  龟井正直

IPC: C08G77/46 ,  A61Q19/00 ,  A61K8/90

Abstract: 本发明提供在化妆料中配合的情况下可制作使用感良好、为高内水相、历时稳定性良好的乳化物的有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及含有有机基团改性有机硅树脂的化妆料。有机基团改性有机硅树脂，其由下述平均组成式(1)表示，25℃下为固体状或液状。(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f(1)(a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1,000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。)。

公开(公告)号：CN109071822A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780021139.6

申请日：2017-02-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直

IPC: C08G77/48 ,  A61K8/06 ,  A61K8/891 ,  A61Q1/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C08G77/46

Abstract: 本发明为下述平均式(1)所示的有机聚硅氧烷。由此，提供能够抑制经时地因来自Si-H基的氢气导致的容器的膨胀或来自脂肪族不饱和基团的异味的产生，能够提供乳化稳定性优异且化妆持续性良好的化妆品的有机聚硅氧烷及含有该有机聚硅氧烷的化妆品，[化学式1]式中，R1为选自碳原子数1～30的烷基等的基团，R2为碳原子数2～15的二价有机基团，R3为氢原子及碳原子数1～30的烷基中的任意一种，R4各自独立地为选自碳原子数2～30的烷基及下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷的基团，a为1～500，b为1～10，c为1～10；其中，c为1时，R4各自独立地为碳原子数14～30的烷基或下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷，[化学式2]式中，R1与式(1)中的R1相同，R5为碳原子数2～15的二价有机基团，d为1～500。

公开(公告)号：CN108137812B

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN201680059705.8

申请日：2016-09-14

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 安部拓矢 ,  伊能博臣 ,  龟井正直 ,  高松纪仁

IPC: C08G77/12 ,  C08G77/06

Abstract: 本发明是一种含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法，其通过以下方式来制造式(6)的固体状含氢硅烷基有机硅树脂：在酸催化剂存在下，使式(1)～(3)的化合物水解后，添加式(4)、(5)的含氢硅烷基有机硅化合物，并进行水解，然后利用比酸催化剂的当量更多的碱催化剂进行中和，并进行缩合；R13SiOSiR13(1)，R13SiX1(2)，SiX24(3)，HnR23‑nSiOSiR23‑nHn(4)，HnR23‑nSiX3(5)，(R13SiO1/2)a(HnR23‑nSiO1/2)b(SiO2)c(R4SiO3/2)d(6)。据此，提供一种含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法，所述含氢硅烷基有机硅树脂在无溶剂的状态下的性状呈固体状，所述含氢硅烷基有机硅树脂的制造方法通过减少氢硅烷基的失活量，能够定量地且大量地导入氢硅烷基。

公开(公告)号：CN111343967A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201880073285.8

申请日：2018-10-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 森谷浩幸 ,  龟井正直

IPC: A61K8/58 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/10 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/10

Abstract: 本发明为一种化妆品，其特征在于，其含有(A)下述通式(1)所示的有机(聚)硅氧烷。由此提供一种具有干爽的触感、延展性，且稳定性高、持妆性良好的化妆品。[化学式1]，式中，R1表示选自C1～C20的烷基、C6～C20的芳基的、除式(2)以外的基团，R2及R3为R1或式(2)，n为0～3的整数，R2及R3中的至少一者为式(2)，[化学式2] ，式中，X表示C2～C20的亚烷基，Y表示氢原子、C1～C20的烷基、C6～C20的芳基、C7～C40的芳烷基、C1～C20的烷氧基、C6～C20的芳氧基、C7～C40的芳烷氧基及卤原子中的任一种。

公开(公告)号：CN105848633B

公开(公告)日：2019-05-10

申请号：CN201480069333.8

申请日：2014-11-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直

IPC: A61K8/893 ,  A61K8/27 ,  A61K8/29 ,  A61Q1/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q15/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C08G77/50

Abstract: 本发明的课题在于提供一种化妆品，所述化妆品附着性优异，可形成均匀的化妆膜，不会随时间而发生妆容凌乱，无发粘感，使用感良好，而且，粉末的分散性稳定，随时间的变化少。为了解决该课题，提供一种利用下述通式(1)所示化合物的至少一种进行了表面处理的粉末。下述式(1)中，R2表示碳原子数6～12的一价芳族烃基，R4表示芳族烃基以外的取代或未取代的碳原子数1～30的一价烃基，R1和R0表示选自上述R2和R4的基团，R3表示下述(2)所示的基团；式(2)中，R5表示碳原子数2～8的二价烃基，R6表示碳原子数1～6的烷基。a为0～3的整数，b为0～200的整数，c为1～150的整数，d为0～50的整数，其中，当a为0时，d为1～50，e为0～2的整数，c/(b+c+d)≥0.25。···(1)···(2)。

公开(公告)号：CN108623809A

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201810217535.2

申请日：2018-03-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 安部拓矢 ,  小西将幸 ,  早川知宏 ,  龟井正直

IPC: C08G77/46 ,  A61Q19/00 ,  A61K8/90

Abstract: 本发明提供在化妆料中配合的情况下可制作使用感良好、为高内水相、历时稳定性良好的乳化物的有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及含有有机基团改性有机硅树脂的化妆料。有机基团改性有机硅树脂，其由下述平均组成式(1)表示，25℃下为固体状或液状。(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f (1)(a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1,000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。)。

公开(公告)号：CN103356403A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310116160.8

申请日：2013-04-03

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直

IPC: A61K8/898 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/10 ,  A61Q1/10 ,  A61Q1/12 ,  A61Q1/08 ,  A61Q1/04 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q5/06 ,  A61Q17/04

CPC classification number: A61K8/73 ,  A61K8/731 ,  A61K2800/10 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/08 ,  A61Q1/10 ,  A61Q1/12 ,  A61Q3/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12 ,  A61Q15/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/04 ,  A61Q19/08 ,  A61Q19/10

Abstract: 本发明的课题在于提供一种化妆持续性优异的化妆材料，可以改善涂匀性的恶劣和粘性等使用感，并改善对非极性油即硅酮油或轻质石蜡等、以及紫外线吸收剂、酯油、及天然动植物油等极性油的溶解性，关于包含极性油的化妆材料，也没有粘性，保存稳定性优异，且可以防止化妆附着于衣服等上（2次附着）。为了解决此课题，本发明提供一种化妆材料，其特征在于，调配有糖化合物，所述糖化合物是通过使糖类的羟基、由通式(1)所代表的含异氰酸酯基有机聚硅氧烷、及由通式(2)所代表的含异氰酸酯基有机化合物反应来获得，

公开(公告)号：CN111225920B

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN201880066989.2

申请日：2018-08-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 龟井正直 ,  广神宗直 ,  安藤裕司

IPC: C07F7/10 ,  A61Q1/00 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/08 ,  A61Q1/10 ,  A61Q1/12 ,  A61Q1/14 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/12 ,  A61Q15/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  A61Q19/04 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388 ,  C08G77/50 ,  A61K8/898

Abstract: 本发明为一种下述式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷，由此提供一种能够得到在维持轻盈的触感、良好的延展的同时，具有优异的持妆性的化妆品的含脲基有机聚硅氧烷及其制备方法、以及包含该含脲基有机聚硅氧烷的化妆品。[化学式1]式中，R1为‑R5‑NHCONH2(R5为二价烃基)，R2为氢原子、羟基、烷氧基、烷基、氟烷基、芳基、及芳烷基中的任一种，R3为R1或R2，R4为下述式(2)表示的有机聚硅氧烷链段(Q为氧原子或二价烃基)，式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷在分子内具有一个以上的R1，c为0时，a+d+f+h+i为1以上。[化学式2]