偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法

    公开(公告)号:CN100409044C

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200410100387.4

    申请日:2004-12-09

    Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法,是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法,其特征在于,在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色,与此同时使最后的染色浴含有硼酸。

    碘系偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法

    公开(公告)号:CN1629660A

    公开(公告)日:2005-06-22

    申请号:CN200410100386.X

    申请日:2004-12-09

    Abstract: 提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法,是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法,其特征在于,在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色,而且,在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸,(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率,或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率,而进行单轴拉伸。

    偏光膜的制造方法,偏光板以及光学积层体

    公开(公告)号:CN1657984A

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN200510009407.1

    申请日:2005-02-04

    Abstract: 一种偏光膜的制造方法,能制造较少瑕疵或皱纹且无折痕的偏光膜。其特征为,于处理PVA(聚乙烯醇)是膜并制造偏光膜的方法中,将加宽辊用于处理液中,并将加宽辊配置在能使最大加宽量β(以算式(1)求得)大于膜与加宽辊接触时,膜在宽方向的膨胀量γ(以算式(2)求得)的位置上,或使用能使β大于γ的形状的加宽辊。β=B1×α×r/R ……(1)γ=0.2055×B1×{exp(-0.0273×θ1)-exp(-0.0273×θ)} ……(2)(式中,B1为与辊接触的膜宽,α为接触角,r为辊的半径,R为辊的曲率半径,θ为膜离开辊之前在液中的行进时间, θ1为膜接触辊之前在液中的行进时间)。

    偏振片的制造方法、偏振器及其光学层板

    公开(公告)号:CN1657983A

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN200510001663.6

    申请日:2005-02-03

    Abstract: 本发明提供一种较少伤或皱的偏振片的制造方法。具体为将聚乙烯醇系膜依次经膨润处理、染色处理、硼酸处理及水洗处理等处理、于硼酸处理制作工艺及/或其前制作工艺中进行单轴延伸的偏振片制造方法,其特征在于处理液中至少一个导向辊使用海绵橡胶辊,进一步该海绵橡胶辊的海绵硬度为JIS萧氏C标度20~60度、密度为0.4~0.6g/cm3及表面粗糙度为10~30S。

    碘系偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法

    公开(公告)号:CN100437162C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200410100386.X

    申请日:2004-12-09

    Abstract: 本发明提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法,是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法,其特征在于,在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色,而且,在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸,(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率,或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率,而进行单轴拉伸。

    偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法

    公开(公告)号:CN1627107A

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN200410100387.4

    申请日:2004-12-09

    Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法,是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法,其特征在于,在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色,与此同时使最后的染色浴含有硼酸。

    偏光膜的制造方法,偏光板以及光学积层体

    公开(公告)号:CN100472250C

    公开(公告)日:2009-03-25

    申请号:CN200510009407.1

    申请日:2005-02-04

    Abstract: 一种偏光膜的制造方法,能制造较少瑕疵或皱纹且无折痕的偏光膜。其特征为,于处理PVA(聚乙烯醇)系膜并制造偏光膜的方法中,将加宽辊用于处理液中,并将加宽辊配置在能使最大加宽量β(以算式(1)求得)大于膜与加宽辊接触时,膜在宽方向的膨胀量γ(以算式(2)求得)的位置上,或使用能使β大于γ的形状的加宽辊。β=B1×α×r/R .......(1)γ=0.2055×B1×{exp(-0.0273×θ1)-exp(-0.0273×θ)} ......(2)(式中,B1为与辊接触的膜宽,α为接触角,r为辊的半径,R为辊的曲率半径,θ为膜离开辊之前在液中的行进时间,θ1为膜接触辊之前在液中的行进时间)。

    偏振片的制造方法、偏振器及其光学层板

    公开(公告)号:CN100410696C

    公开(公告)日:2008-08-13

    申请号:CN200510001663.6

    申请日:2005-02-03

    Abstract: 本发明提供一种较少伤或皱的偏振片的制造方法。具体为将聚乙烯醇系膜依次经膨润处理、染色处理、硼酸处理及水洗处理等处理、于硼酸处理制作工艺及/或其前制作工艺中进行单轴延伸的偏振片制造方法,其特征在于处理液中至少一个导向辊使用海绵橡胶辊,进一步该海绵橡胶辊的海绵硬度为JIS萧氏C标度20~60度、密度为0.4~0.6g/cm3及表面粗糙度为10~30S。

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