公开(公告)号：CN111742391B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN201980012863.1

申请日：2019-02-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 奥村雄三 ,  近藤克哉 ,  山田周平 ,  两川敦 ,  福井由季

IPC: H01L21/304 ,  C07F7/02 ,  C07F7/12 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：(I)甲硅烷基化剂、(II)下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及(III)有机溶剂。#imgabs0#

公开(公告)号：CN111630633A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN201880086426.X

申请日：2018-12-26

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 福井由季 ,  照井贵阳 ,  山田周平 ,  奥村雄三 ,  公文创一 ,  盐田彩织 ,  近藤克哉

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种能够进一步改善拒水性赋予效果的拒水性保护膜形成用化学溶液。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液具有(I)下述通式[1]所示的氨基硅烷化合物、(II)下述通式[2]所示的硅化合物和(III)非质子性溶剂，(I)的含量相对于(I)～(III)的总量为0.02～0.5质量％。

公开(公告)号：CN111699546B

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN201980012741.2

申请日：2019-02-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 奥村雄三 ,  近藤克哉 ,  山田周平 ,  两川敦 ,  福井由季

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种用于在包含硅元素的晶片的表面形成拒水性保护膜的新型拒水性保护膜形成剂或新型拒水性保护膜形成用化学溶液、以及使用液体状态的该拒水性保护膜形成剂或该化学溶液的晶片表面处理方法。本发明的拒水性保护膜形成剂为选自由下述通式[1]所示的胍衍生物和下述通式[2]所示的脒衍生物组成的组中的至少1种硅化合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN116685715A

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202280009700.X

申请日：2022-01-28

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 冈田卓也 ,  山本纯基 ,  谷口敬寿 ,  吉浦一基 ,  近藤克哉 ,  公文创一 ,  宫崎达夫

IPC: C23C26/00

Abstract: 本发明涉及一种选择性膜沉积方法，其特征在于，将具有露出了含有金属元素的第一表面区域与含有非金属无机材料的第二表面区域这两者的结构的基板暴露于含有下述通式(1)所表示的有机物与溶剂的溶液中，使所述有机物的膜较之所述第二表面区域选择性地沉积于所述第一表面区域，R1(X)m (1)在通式(1)中，R1为碳原子数为4～100的任选具有杂原子或卤素原子的烃基，所述烃基的m个氢原子被X取代。X为‑PO3(R2)2、‑O‑PO3(R2)2、‑CO2R2、‑SR2或‑SSR1。R2各自为氢原子或碳原子数为1～6的烷基。m为正整数，当将该烃基的碳原子数设为r时，m/r为0.01～0.25。

公开(公告)号：CN111630633B

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN201880086426.X

申请日：2018-12-26

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 福井由季 ,  照井贵阳 ,  山田周平 ,  奥村雄三 ,  公文创一 ,  盐田彩织 ,  近藤克哉

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种能够进一步改善拒水性赋予效果的拒水性保护膜形成用化学溶液。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液具有(I)下述通式[1]所示的氨基硅烷化合物、(II)下述通式[2]所示的硅化合物和(III)非质子性溶剂，(I)的含量相对于(I)～(III)的总量为0.02～0.5质量％。

公开(公告)号：CN111742391A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201980012863.1

申请日：2019-02-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 奥村雄三 ,  近藤克哉 ,  山田周平 ,  两川敦 ,  福井由季

IPC: H01L21/304 ,  C07F7/02 ,  C07F7/12 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：(I)甲硅烷基化剂、(II)下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及(III)有机溶剂。[式[1]、[2]中，R1分别相互独立地选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。R2选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、烷基甲硅烷基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。]

公开(公告)号：CN111699546A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201980012741.2

申请日：2019-02-05

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 奥村雄三 ,  近藤克哉 ,  山田周平 ,  两川敦 ,  福井由季

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种用于在包含硅元素的晶片的表面形成拒水性保护膜的新型拒水性保护膜形成剂或新型拒水性保护膜形成用化学溶液、以及使用液体状态的该拒水性保护膜形成剂或该化学溶液的晶片表面处理方法。本发明的拒水性保护膜形成剂为选自由下述通式[1]所示的胍衍生物和下述通式[2]所示的脒衍生物组成的组中的至少1种硅化合物。