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发明公开
一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置无效

公开(公告)号：CN101294279A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200710098935.8

申请日：2007-04-29

Applicant: 中国科学院理化技术研究所

Inventor： 李来风 , 黄荣进 , 黄传军 , 蔡方硕 , 龚领会 , 徐向东

IPC: C23C16/513 , C23C16/448 , C08J7/16

Abstract: 本发明涉及一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，包括反应室、射频电源、单体蒸气产生瓶、介质气体瓶和真空泵；所述单体蒸气产生瓶、介质气体瓶和真空泵分别通过管道与反应室连接，所述射频电源连接一射频放电线圈，该射频放电线圈缠绕在反应室容器的外壁上。本发明能够达到如下技术效果：实现颗粒表面均匀可控的等离子镀膜；薄膜成分多样化；薄膜厚度在几纳米到数微米之间可控；薄膜连续、无针孔、三维交联；能为特定用途的颗粒表面镀上特定的薄膜。

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