一种DDR沸石膜的制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119258810A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411704668.4

    申请日:2024-11-26

    Abstract: 本发明提供了一种DDR沸石膜的制备方法,属于沸石分子筛膜制备领域。本发明提供了一种DDR沸石膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将DDR沸石晶种负载于硅灰基体的表面后进行烧结,得到负载有晶种的收缩态硅灰基体;(2)将强碱、结构导向剂负载于所述收缩态硅灰基体的表面后进行蒸汽加热,得到所述DDR沸石膜;所述蒸汽加热的温度为145~175℃。硅灰中的SiO2具有较高的反应活性,在强碱及蒸汽的条件下原有结构被破坏形成游离Si离子和游离O离子。游离Si离子和游离O离子在结构导向剂和表面DDR沸石晶种的作用下重新排列组合形成以硅氧4面体为主的3维空间网状结构生成DDR结晶,生长得到DDR沸石膜。

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