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公开(公告)号：CN113223773B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202110491577.7
申请日：2021-05-06
Applicant: 上海超导科技股份有限公司 , 上海交通大学
Abstract: 本发明提供了一种第二代高温超导带材及其制备方法，该第二代高温超导带材包括超导带材本体，以及设置于所述超导带材本体至少一侧的保护层，所述保护层为铜‑石墨烯复合膜，所述保护层单面总厚度为2～30微米。制备方法包括以下步骤：(1)将超导带材本体放入磁控溅射反应腔内，抽至高真空，再充入工作气体；(2)通过控制磁控溅射功率，以铜、石墨烯作为靶材，开始溅射镀膜，将靶材材料沉积在超导带材本体表面，即得到表面生长有铜‑石墨烯结构的第二代高温超导带材。制备的包含铜‑石墨烯高强高导保护层的超导带材，抗拉强度比传统电镀铜的超导带材抗拉强度提高了30％‑70％，导电率衰减小于10％IACS，且临界电流无衰减。
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公开(公告)号：CN111785443B
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202010682239.7
申请日：2020-07-15
Applicant: 上海超导科技股份有限公司 , 上海交通大学
Abstract: 本发明公开了一种多源离子喷射源非原位沉积生产高温超导带材的方法，属于超导带材的制备工艺技术领域，包括以下步骤：利用多源离子喷射轰击靶材，在有双轴织构的缓冲层带材经过靶材附近，使得在缓冲层上沉积金属氧化物的混合物形成前驱膜。前驱膜首先经过低氧分压环境，然后经过较高氧分压环境中，形成具有四方相的超导膜。四方相的超导膜经过吸氧后，完成四方相向正交超导相转变，形成具有一定载流性能的超导带材。本发明中，超导薄膜是通过多源离子枪喷射沉积的技术方案实现。通过差分氧分压技术，实现快速生成超导相和热处理等工艺。该技术具有镀膜效率高，薄膜生长速率快，能够精确控制膜成分和均匀度，成本低等优点，适用于工业大规模生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111943674A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010751690.X
申请日：2020-07-30
Applicant: 上海交通大学
IPC: C04B35/50 , C04B35/645
Abstract: 本发明公开了一种大直径稀土钡铜氧化物超导靶材的制备方法，所述的大直径稀土钡铜氧化物超导靶材通过以下步骤制备获得：步骤一：将起始原料按照一定比例进行均匀混合，不添加任何粘结剂，获得混合粉末；步骤二：将获得的混合粉末置于高温合金钢模具中，进行非真空加压烧结，获得大直径稀土钡铜氧化物超导靶材。此外，本发明还公开了一种大直径稀土钡铜氧化物超导靶材，其采用上述的制备方法制得。另外，本发明还公开了一种超导薄膜，所述超导薄膜采用上述的大直径稀土钡铜氧化物超导靶材制得。该大直径稀土钡铜氧化物超导靶材可以显著提高大直径超导靶材的成品率，降低其宏观或微裂纹的出现几率，提高靶材密度，并且可以降低靶材中有害杂质元素。
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公开(公告)号：CN111785443A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202010682239.7
申请日：2020-07-15
Applicant: 上海超导科技股份有限公司 , 上海交通大学
Abstract: 本发明公开了一种多源离子喷射源非原位沉积生产高温超导带材的方法，属于超导带材的制备工艺技术领域，包括以下步骤：利用多源离子喷射轰击靶材，在有双轴织构的缓冲层带材经过靶材附近，使得在缓冲层上沉积金属氧化物的混合物形成前驱膜。前驱膜首先经过低氧分压环境，然后经过较高氧分压环境中，形成具有四方相的超导膜。四方相的超导膜经过吸氧后，完成四方相向正交超导相转变，形成具有一定载流性能的超导带材。本发明中，超导薄膜是通过多源离子枪喷射沉积的技术方案实现。通过差分氧分压技术，实现快速生成超导相和热处理等工艺。该技术具有镀膜效率高，薄膜生长速率快，能够精确控制膜成分和均匀度，成本低等优点，适用于工业大规模生产。
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公开(公告)号：CN111943674B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202010751690.X
申请日：2020-07-30
Applicant: 上海交通大学
IPC: C04B35/50 , C04B35/645
Abstract: 本发明公开了一种大直径稀土钡铜氧化物超导靶材的制备方法，所述的大直径稀土钡铜氧化物超导靶材通过以下步骤制备获得：步骤一：将起始原料按照一定比例进行均匀混合，不添加任何粘结剂，获得混合粉末；步骤二：将获得的混合粉末置于高温合金钢模具中，进行非真空加压烧结，获得大直径稀土钡铜氧化物超导靶材。此外，本发明还公开了一种大直径稀土钡铜氧化物超导靶材，其采用上述的制备方法制得。另外，本发明还公开了一种超导薄膜，所述超导薄膜采用上述的大直径稀土钡铜氧化物超导靶材制得。该大直径稀土钡铜氧化物超导靶材可以显著提高大直径超导靶材的成品率，降低其宏观或微裂纹的出现几率，提高靶材密度，并且可以降低靶材中有害杂质元素。
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公开(公告)号：CN111485213A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202010352055.4
申请日：2020-04-28
Applicant: 上海超导科技股份有限公司 , 上海交通大学
Abstract: 本发明提供了一种适用于生产二代高温超导带材的工艺方法，包括以下步骤：S1、将具有双轴织构缓冲层的金属基带放入镀膜腔中；S2、采用原位沉积方法，通过多个离子枪对镀膜腔中的金属基带表面进行超导薄膜的喷射沉积，所述金属基带位于所述离子枪上方，所述离子枪下方设置靶材；S3、对沉积有超导薄膜的金属基带进行吸氧处理，使超导薄膜由非超导相转化为超导相，得到二代高温超导带材。本发明的工艺方法中，超导薄膜通过多源离子枪喷射沉积技术方案实现，可以灵活地调节离子束功率，具有低成本，高镀膜效率，高均匀度，可镀大面积膜，工艺控制更加简单等优势，适用于工业大规模生产。
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公开(公告)号：CN113223773A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110491577.7
申请日：2021-05-06
Applicant: 上海超导科技股份有限公司 , 上海交通大学
Abstract: 本发明提供了一种第二代高温超导带材及其制备方法，该第二代高温超导带材包括超导带材本体，以及设置于所述超导带材本体至少一侧的保护层，所述保护层为铜‑石墨烯复合膜，所述保护层单面总厚度为2～30微米。制备方法包括以下步骤：(1)将超导带材本体放入磁控溅射反应腔内，抽至高真空，再充入工作气体；(2)通过控制磁控溅射功率，以铜、石墨烯作为靶材，开始溅射镀膜，将靶材材料沉积在超导带材本体表面，即得到表面生长有铜‑石墨烯结构的第二代高温超导带材。制备的包含铜‑石墨烯高强高导保护层的超导带材，抗拉强度比传统电镀铜的超导带材抗拉强度提高了30％‑70％，导电率衰减小于10％IACS，且临界电流无衰减。
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