公开(公告)号：CN109415598B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201780039537.0

申请日：2017-06-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴京主 ,  俞龙植

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的用于金属膜的CMP浆料组合物包含磨粒、溶剂、氧化剂、金属离子和还原剂。

公开(公告)号：CN109415598A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780039537.0

申请日：2017-06-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴京主 ,  俞龙植

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的用于金属膜的CMP浆料组合物包含磨粒、溶剂、氧化剂、金属离子和还原剂。