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公开(公告)号:CN113138532B
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202110056902.7
申请日:2021-01-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物,包含:(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物;(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物;以及(C)溶剂;且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法,化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。
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公开(公告)号:CN113138532A
公开(公告)日:2021-07-20
申请号:CN202110056902.7
申请日:2021-01-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物,包含:(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物;(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物;以及(C)溶剂;且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法,化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。
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