工艺邻近效应校正方法和工艺邻近效应校正设备

    公开(公告)号:CN117666274A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311140737.9

    申请日:2023-09-05

    Abstract: 提供了一种能够有效改善图案的分散性的工艺邻近效应校正方法。存在根据一些实施例的工艺邻近效应校正方法,使用由处理器执行的机器学习模块来执行多个图案的工艺邻近效应校正(PPC)的工艺邻近效应校正设备的工艺邻近效应校正方法包括:通过将多个图案的布局图像和多个图案的布局关键尺寸(CD)输入到机器学习模块中来训练灵敏度模型;通过推断多个图案的清洗后检测关键尺寸(ACI‑CD)预测值来估计多个图案的ACI‑CD灵敏度预测值;以及使用估计的灵敏度预测值来确定多个图案的布局CD的校正率。

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