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公开(公告)号：CN1177631A
公开(公告)日：1998-04-01
申请号：CN97109669.4
申请日：1997-03-01
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 全相文 , 李富燮 , 金成日 , 峻仍 , 田弼权 , 田美淑
IPC: C11D7/50
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/422
Abstract: 在制造半导体过程中的清洗剂制品的包括乳酸乙酯(EL)和3－乙氧基丙酸乙酯(EEP),最好,它还包括γ－丁内酯。因此,晶片边缘或背侧的光刻胶能以足够快的速度有效地除去,因而可以提高半导体器件的成品率。另外,可完全除去的附着在表面上的残留光刻胶,以便能再利用该晶片,因而获得晶片的再利用和经济用途。
