公开(公告)号：CN116963998A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202280012086.2

申请日：2022-01-28

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 大迫隆男 ,  加藤和彦 ,  小林裕

IPC: C01B33/157

Abstract: 本发明的目的在于，提供具有优异吸附性能的多孔体、包含该多孔体的吸附材料、以及使用该吸附材料从处理对象液中去除金属和/或金属离子的方法，为了实现该目的而提供多孔体，其具有由包含介孔的陶瓷骨架与大孔形成的共连续结构，前述陶瓷骨架的表面被能够吸附金属和/或金属离子的含有氮原子的基团进行了修饰，前述含有氮原子的基团为选自伯氨基、仲氨基、叔氨基、季铵基、亚氨基、次氮基和含有氮原子的杂环基中的至少1种，前述多孔体中包含的前述含有氮原子的基团的量为1.5mmol/g以上且5.4mmol/g以下。

公开(公告)号：CN116761782A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202280012120.6

申请日：2022-01-28

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 大迫隆男 ,  加藤和彦 ,  小林裕

IPC: C02F1/28

Abstract: 本发明的目的在于，提供使用单块吸附材料从处理对象液中回收金属和/或金属离子的新型方法、以及对在从处理对象液中回收金属和/或金属离子的方法中使用的吸附材料进行再生的新型方法，为了实现该目的而提供一种方法，其为回收金属和/或金属离子的方法，包括以下的工序：(1)准备包含金属和/或金属离子的溶液的工序；(2)准备吸附材料的工序，所述吸附材料具有由包含介孔的陶瓷骨架与大孔形成的共连续结构，前述陶瓷骨架的表面被能够吸附金属和/或金属离子的官能团修饰，利用前述官能团进行修饰前的前述大孔的众数孔径为0.20μm以上且4.0μm以下，利用前述官能团进行修饰前的前述介孔的众数孔径为2.0nm以上且50nm以下；(3)使前述溶液与前述吸附材料进行接触的工序；(4)使供于工序(3)的前述吸附材料与酸性溶液进行接触的工序；以及(5)从供于工序(4)的酸性溶液中回收前述金属和/或前述金属离子的工序。

公开(公告)号：CN116806208A

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN202280012119.3

申请日：2022-01-28

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 大迫隆男 ,  加藤和彦 ,  小林裕

IPC: C01B33/157

Abstract: 本发明的目的在于，提供能够兼顾吸附性能和耐久性的单块柱状体、使用该单块柱状体的单块吸附材料、以及使用该单块吸附材料从处理对象液中去除金属和/或金属离子的方法，为了实现该目的而提供柱状体(1)，其具有由包含介孔(4)的陶瓷骨架(2)与大孔(3)形成的共连续结构，柱状体(1)的平均直径为1.5mm以上且20mm以下，大孔(3)的孔径为0.20μm以上且4.0μm以下，介孔(4)的孔径为2.0nm以上且50nm以下。

公开(公告)号：CN116829505A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202280012171.9

申请日：2022-01-28

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 大迫隆男 ,  加藤和彦 ,  小林裕

IPC: C01B33/141

Abstract: 本发明的目的在于提供一种装置和方法，其能够一边有效地冷却混合液一边在充分进行管理的条件下进行混合液的溶胶化，从而在工业上制造均质的溶胶，进而能够诱发伴随相分离过程的溶胶‑凝胶转变，制造具有骨架相与溶剂相的共连续结构的凝胶，并且能够制造具有大孔的二氧化硅多孔体。根据本发明的一实施方式，提供一种溶胶制造装置(1)，其为在具有大孔的二氧化硅多孔体的制造中用于制造溶胶的溶胶制造装置(1)，其具备：混合部(11)，其用于制备包含二氧化硅前体、催化剂和大孔形成剂的混合液；第1供给部(12)，其将二氧化硅前体供给至混合部(11)；第2供给部(13A)，其将催化剂和大孔形成剂以混合状态供给至混合器(11)；排出管(14)，其将混合液(M)从混合部(11)排出；以及冷却部(15)，其将在排出管(14)中流通的混合液(M)冷却至35℃以下。