- 专利标题： Target profile for a physical vapor deposition chamber target
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申请号： US29714564申请日： 2019-11-25
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公开(公告)号： USD946638S1公开(公告)日： 2022-03-22
- 设计人: Martin Lee Riker , Fuhong Zhang , Zheng Wang
- 申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 代理机构： Moser Taboada
- LOC分类号： 1509
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