发明授权
US09558862B2 Conductive polymer composition, coated article having antistatic film formed from the composition, and patterning process using the composition
有权
导电聚合物组合物，具有由组合物形成的抗静电膜的涂布制品，以及使用该组合物的图案化工艺
- 专利标题： Conductive polymer composition, coated article having antistatic film formed from the composition, and patterning process using the composition
- 专利标题（中）： 导电聚合物组合物，具有由组合物形成的抗静电膜的涂布制品，以及使用该组合物的图案化工艺
-
申请号： US14408911申请日： 2013-06-06
-
公开(公告)号： US09558862B2公开(公告)日： 2017-01-31
- 发明人: Toshiya Sawai , Takayuki Nagasawa , Satoshi Watanabe , Keiichi Masunaga
- 申请人： SHIN-ETSU POLYMER CO., LTD. , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 专利权人： SHIN-ETSU POLYMER CO., LTD.,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： SHIN-ETSU POLYMER CO., LTD.,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 代理机构： Oliff PLC
- 优先权： JP2012-148936 20120702
- 国际申请： PCT/JP2013/003561 WO 20130606
- 国际公布： WO2014/006821 WO 20140109
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; G03F7/20 ; C08K5/16 ; G03F7/09 ; H01B1/12 ; C08K5/20
摘要：
The present invention is a conductive polymer composition containing a π-conjugated conductive polymer, a polyanion, and a gemini surfactant. There can be provided a conductive polymer composition that has excellent antistatic performance and excellent application properties, does not adversely affect a resist, and can be suitably used in lithography using electron beam or the like.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
