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US09239524B2 Exposure condition determination method, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method involving detection of the situation of a liquid immersion region 有权
曝光条件判定方法，曝光方法，曝光装置以及涉及检测液浸区域的情况的装置制造方法

  • 专利标题： Exposure condition determination method, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method involving detection of the situation of a liquid immersion region
  • 专利标题（中）： 曝光条件判定方法，曝光方法，曝光装置以及涉及检测液浸区域的情况的装置制造方法
  • 申请号： US11887344
    申请日： 2006-03-30
  • 公开(公告)号： US09239524B2
    公开(公告)日： 2016-01-19
  • 发明人: Yoshiki Kida , Hiroyuki Nagasaka
  • 申请人： Yoshiki Kida , Hiroyuki Nagasaka
  • 申请人地址： JP Tokyo
  • 专利权人： NIKON CORPORATION
  • 当前专利权人： NIKON CORPORATION
  • 当前专利权人地址： JP Tokyo
  • 优先权： JPP2005-098047 20050330
  • 国际申请： PCT/JP2006/306675 WO 20060330
  • 国际公布： WO2006/106832 WO 20061012
  • 主分类号： G03F7/20
  • IPC分类号： G03F7/20
Exposure condition determination method, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method involving detection of the situation of a liquid immersion region
摘要：
The situation of a liquid immersion region (LR) formed on the surface of a substrate (P) is detected while changing at least one of the movement condition of the substrate (P) and the liquid immersion condition when forming the liquid immersion region (LR), and an exposure condition is determined based on the detection results.
摘要（中）：

在形成液浸区域（LR）时，在改变基板（P）的移动状态和液浸条件中的至少一个时，检测形成在基板（P）表面上的液浸区域（LR） ），并且基于检测结果确定曝光条件。

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