发明授权
- 专利标题： Thermally stable volatile film precursors
- 专利标题（中）： 热稳定的挥发性膜前体
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申请号： US13319793申请日： 2010-05-17
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公开(公告)号： US08962876B2公开(公告)日： 2015-02-24
- 发明人: Charles H. Winter , Thomas Joseph Knisley , Panditha Koralalage Don Mahesh Chinthaka Karunarathne
- 申请人： Charles H. Winter , Thomas Joseph Knisley , Panditha Koralalage Don Mahesh Chinthaka Karunarathne
- 申请人地址： US MI Detroit
- 专利权人： Wayne State University
- 当前专利权人： Wayne State University
- 当前专利权人地址： US MI Detroit
- 代理机构： Brooks Kushman P.C.
- 国际申请： PCT/US2010/035080 WO 20100517
- 国际公布： WO2010/132871 WO 20101118
- 主分类号： C07F15/00
- IPC分类号： C07F15/00 ; C07F13/00 ; C07F11/00 ; C23C16/18 ; C07C233/05 ; C07F15/02 ; C07F15/04 ; C07F15/06 ; C07C243/28
摘要：
A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.
公开/授权文献
- US20120058270A1 THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS 公开/授权日：2012-03-08
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