发明授权
US08951890B2 Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern using the composition
有权
光化学射线或辐射敏感性树脂组合物，其中的光化射线或辐射敏感膜，以及使用组合物形成图案的方法
- 专利标题： Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern using the composition
- 专利标题（中）： 光化学射线或辐射敏感性树脂组合物，其中的光化射线或辐射敏感膜，以及使用组合物形成图案的方法
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申请号： US13637825申请日： 2011-12-22
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公开(公告)号： US08951890B2公开(公告)日： 2015-02-10
- 发明人: Kei Yamamoto , Mitsuhiro Fujita , Tomoki Matsuda
- 申请人： Kei Yamamoto , Mitsuhiro Fujita , Tomoki Matsuda
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2010-288728 20101224
- 国际申请： PCT/JP2011/080558 WO 20111222
- 国际公布： WO2012/086849 WO 20120628
- 主分类号： H01L21/301
- IPC分类号： H01L21/301 ; H01L23/58 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/20
摘要：
Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including (A) a resin that when acted on by an acid, is decomposed to thereby increase its solubility in an alkali developer, (B) an onium salt containing a nitrogen atom in its cation moiety, which onium salt when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid, and (C) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the compound being any of compounds of general formulae (1-1) and (1-2) below.
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