- 专利标题： High temperature stable amorphous silica-rich aluminosilicates
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申请号： US13186861申请日： 2011-07-20
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公开(公告)号： US08497018B2公开(公告)日： 2013-07-30
- 发明人: Sankar Sambasivan , Vikram Sharad Kaul , Francis Richard Chapman , Jeffrey William Donelan
- 申请人： Sankar Sambasivan , Vikram Sharad Kaul , Francis Richard Chapman , Jeffrey William Donelan
- 申请人地址： US IL Skokie
- 专利权人： Applied Thin Films, Inc.
- 当前专利权人： Applied Thin Films, Inc.
- 当前专利权人地址： US IL Skokie
- 主分类号： C01B33/26
- IPC分类号： C01B33/26 ; B32B37/00 ; B32B18/00 ; C04B35/195 ; C04B35/19
摘要：
A solid amorphous silica-rich aluminosilicate composition is stable at temperatures up to 1500° C. or above and is capable of sustained use as a coating under high to extreme temperature conditions.
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