发明授权
- 专利标题： Positioning apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 定位装置，曝光装置和装置制造方法
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申请号： US11929375申请日： 2007-10-30
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公开(公告)号： US07646488B2公开(公告)日： 2010-01-12
- 发明人: Zenichi Hamaya
- 申请人： Zenichi Hamaya
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Canon USA Inc IP Div
- 优先权： JP2006-331158 20061207
- 主分类号： G01B11/02
- IPC分类号： G01B11/02 ; B23Q1/25
摘要：
A positioning apparatus includes a stage base, a stage moving along a surface of the stage base, a cable having one end connected to the stage, and a straightening structure configured to straighten air currents around the cable. The straightening structure is provided to at least one of the stage and the cable.
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