- 专利标题： Positive resist composition
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申请号： US10099981申请日： 2002-03-19
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公开(公告)号： US07138217B2公开(公告)日： 2006-11-21
- 发明人: Toshiaki Aoai , Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人： Toshiaki Aoai , Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人地址： JP Kanagawa
- 专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Kanagawa
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JPP.2001-079184 20010319
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/26 ; G03F7/32
摘要：
A positive resist composition comprises: (A) a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation, wherein the resin (A) contains a specified repeating unit.
公开/授权文献
- US20020168584A1 Positive resist composition 公开/授权日：2002-11-14
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