发明授权
- 专利标题： Chemical-mechanical planarization slurries and powders and methods for using same
- 专利标题（中）： 化学机械平面化浆料和粉末及其使用方法
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申请号： US09753026申请日： 2001-01-02
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公开(公告)号： US06730245B2公开(公告)日： 2004-05-04
- 发明人: Mark J. Hampden-Smith , Toivo T. Kodas , James Caruso , Daniel J. Skamser , Quint H. Powell
- 申请人： Mark J. Hampden-Smith , Toivo T. Kodas , James Caruso , Daniel J. Skamser , Quint H. Powell
- 主分类号： B29B910
- IPC分类号： B29B910
摘要：
Chemical-mechanical planarization slurries and methods for using the slurries wherein the slurry includes abrasive particles. The abrasive particles have a small particle size, narrow size distribution and a spherical morphology and the particles are substantially unagglomerated.
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