发明授权
- 专利标题： Method for treating silane-containing gas
- 专利标题（中）： 处理含硅气体的方法
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申请号： US47385申请日： 1998-03-25
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公开(公告)号： US5961695A公开(公告)日： 1999-10-05
- 发明人: Masayuki Hasegawa , Kazuo Ogiwara , Hiroyuki Kobayashi , Yukinori Satoh , Yoshihiro Shirata , Masaaki Furuya
- 申请人： Masayuki Hasegawa , Kazuo Ogiwara , Hiroyuki Kobayashi , Yukinori Satoh , Yoshihiro Shirata , Masaaki Furuya
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Col., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Col., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX9-091666 19970326
- 主分类号： C07F7/12
- IPC分类号： C07F7/12 ; B01D53/70 ; B01D53/72 ; B01D53/77 ; C07C7/12 ; C07F7/20 ; B01D47/00
摘要：
A silane-containing gas is treated by contacting it with a liquid containing silanes or disilanes which are higher boiling than the silanes in the silane-containing gas, thereby easily removing or reducing the amount of silanes in the gas and enabling the recovery of these silanes.
公开/授权文献
- USD383897S Fly box 公开/授权日：1997-09-23
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