发明授权
- 专利标题： Process for producing a pattern with negative-type photosensitive composition
- 专利标题（中）： 用负型光敏组合物制造图案的方法
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申请号： US037847申请日： 1987-04-13
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公开(公告)号： US4801519A公开(公告)日： 1989-01-31
- 发明人: Shigeru Koibuchi , Asao Isobe , Daisuke Makino , Yutaka Takeda
- 申请人： Shigeru Koibuchi , Asao Isobe , Daisuke Makino , Yutaka Takeda
- 申请人地址： JPX Tokyo JPX Tokyo
- 专利权人： Hitachi Chemical Company Ltd.,Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi Chemical Company Ltd.,Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo JPX Tokyo
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/30 ; G03F7/32 ; H01L21/027 ; G03C5/00
摘要：
A developing solution comprising at least two compounds selected from choline and quaternary ammonium salts is suitable for developing a negative-type photosensitive resin composition with exposure to a smaller light amount.
公开/授权文献
- USD370069S Track light 公开/授权日：1996-05-21
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