发明授权
- 专利标题： Dental cleaning composition and method
- 专利标题（中）： 牙科清洁剂组合物及方法
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申请号： US155165申请日： 1980-06-02
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公开(公告)号： US4296094A公开(公告)日： 1981-10-20
- 发明人: Yoshio Matsushima , Teruhiko Kumura , Isamu Kawamura , Terushige Kawata
- 申请人： Yoshio Matsushima , Teruhiko Kumura , Isamu Kawamura , Terushige Kawata
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人： Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 主分类号： A61K8/22
- IPC分类号： A61K8/22 ; A61K8/26 ; A61Q11/00 ; A61K7/16 ; A61K7/18
摘要：
A dental cleaning composition comprising about 0.01 to about 30% by weight, based on the composition, of a hydrotalcite compound of the following formulaMg.sub.1-x Al.sub.x (OH).sub.2+x-ny A.sub.y.sup.n-.mH.sub.2 OwhereinA.sup.n- represents an anion having a valence ofn, x is a positive number represented by 0
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