发明授权
- 专利标题： Process for reducing secondary electron emission
- 专利标题（中）： 减少二次电子发射的方法
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申请号： US3540989D申请日： 1967-06-08
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公开(公告)号： US3540989A公开(公告)日： 1970-11-17
- 发明人: ERPENBACH HUBERT
- 申请人： WEBB JAMES E , NASA
- 专利权人： Webb James E,Nasa
- 当前专利权人： Webb James E,Nasa
- 优先权： US64557367 1967-06-08
- 主分类号： H01J9/20
- IPC分类号： H01J9/20 ; H01J43/02
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