发明申请
US20160266488A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
有权
丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子设备的方法和电子设备
- 专利标题： ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
- 专利标题（中）： 丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子设备的方法和电子设备
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申请号： US15158848申请日： 2016-05-19
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公开(公告)号： US20160266488A1公开(公告)日： 2016-09-15
- 发明人: Masafumi KOJIMA , Akiyoshi GOTO , Akinori SHIBUYA , Keita KATO , Kei YAMAMOTO
- 申请人： FUJIFILM Corporation
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2013-257496 20131212
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/32 ; G03F7/20
摘要：
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) having a partial structure represented by General Formula (X), and a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation.
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