METHODS OF REMOVING A HARD MASK

Invention Application

US20150380267A1 METHODS OF REMOVING A HARD MASK 审中-公开

Title translation: 去除硬掩模的方法

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Patent Title: METHODS OF REMOVING A HARD MASK
Patent Title (中): 去除硬掩模的方法
Application No.: US14706975

Application Date: 2015-05-08
Publication No.: US20150380267A1

Publication Date: 2015-12-31
Inventor: Je-Woo HAN , Gyung-Jin MIN
Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.
Priority: KR10-2014-0080796 20140630
Main IPC: H01L21/311
IPC: H01L21/311 ; H01L21/3065 ; H01L21/308

Abstract:

In a method of removing a hard mask, a hard mask is formed on a substrate. A first plasma treatment is performed on the hard mask at a first temperature. A second plasma treatment is performed on the hard mask at a second temperature higher than the first temperature.

Abstract(Chinese):

在去除硬掩模的方法中，在基板上形成硬掩模。在第一温度下对硬掩模进行第一等离子体处理。在比第一温度高的第二温度下对硬掩模进行第二等离子体处理。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02	.半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04	..至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18	...器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/30	....用H01L21/20至H01L21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L21/28）
H01L21/31	.....在半导体材料上形成绝缘层的，例如用于掩膜的或应用光刻技术的（密封层入H01L21/56）；以及这些层的后处理；这些层的材料的选择
H01L21/3105	......后处理
H01L21/311	.......绝缘层的刻蚀