发明申请
US20120258858A1 METHOD FOR DEPOSITION BY SPUTTERING, RESULTING PRODUCT, AND SPUTTERING TARGET
审中-公开
通过溅射，结果产品和溅射目标沉积的方法
- 专利标题： METHOD FOR DEPOSITION BY SPUTTERING, RESULTING PRODUCT, AND SPUTTERING TARGET
- 专利标题（中）： 通过溅射，结果产品和溅射目标沉积的方法
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申请号： US13382954申请日： 2010-07-08
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公开(公告)号： US20120258858A1公开(公告)日： 2012-10-11
- 发明人: Nicolas Chemin , Eric Gouardes
- 申请人： Nicolas Chemin , Eric Gouardes
- 申请人地址： FR Courbevoie
- 专利权人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE
- 当前专利权人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE
- 当前专利权人地址： FR Courbevoie
- 优先权： FR0954756 20090709
- 国际申请： PCT/EP10/59810 WO 20100708
- 主分类号： C23C14/08
- IPC分类号： C23C14/08 ; C04B35/453 ; B01J23/18 ; C23C14/34 ; C23C14/35
摘要：
The subject of the invention is a process for obtaining a substrate coated with a photocatalytic film based on a mixed oxide of bismuth and at least one metal other than bismuth, comprising at least a step of depositing said oxide by a sputtering technique.
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