Invention Publication
- Patent Title: 制造三族氮化物装置的方法及使用该方法制造的装置
- Patent Title (English): Method for fabricating group iii nitride devices and devices fabricated using method
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Application No.: CN200580015803.3Application Date: 2005-05-17
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Publication No.: CN1957481APublication Date: 2007-05-02
- Inventor: 中村修二 , S·迪巴尔司 , J·艾德蒙 , U·米史拉 , C·史华波达
- Applicant: 美商克立股份有限公司
- Applicant Address: 美国北卡罗莱纳州
- Assignee: 美商克立股份有限公司
- Current Assignee: 美商克立股份有限公司
- Current Assignee Address: 美国北卡罗莱纳州
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 顾敏
- Priority: 10/848,937 2004.05.18 US
- International Application: PCT/US2005/016987 2005.05.17
- International Announcement: WO2005/117152 EN 2005.12.08
- Date entered country: 2006-11-17
- Main IPC: H01L33/00
- IPC: H01L33/00

Abstract:
根据本发明的一种用于制造具有高光提取的光子装置的方法,它包括:在一基片上生长一外延半导体结构及在该外延半导体结构上沉积一第一镜层,使该外延半导体结构夹在该第一镜层与该基片之间。将该外延半导体结构及其第一镜层与基片以倒装晶片方式装于一子基片上,使该外延半导体装置结构夹在该子基片与基片之间。接着通过向该基片引入一蚀刻环境而将该基片从该外延结构上移除。在该外延半导体结构上沉积一第二镜层,使该外延半导体结构夹在该第一与第二镜层之间。根据本发明的一种装置包括装于一子基片上的一共振腔发光二极管(RCLED)。
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